上海晶诺微工业在线膜厚测量设备 QUASAR-S系列参数
作为面向实验室、科研院所以及工业生产现场的在线膜厚监测解决方案,QUASAR-S系列以高稳定性、实时性和易集成性著称。该系列在在线膜厚测量领域提供多档位测量范围、标准化数据接口与快速自适应校准能力,适用于涂层、膜层、薄膜片等多种工艺环节的在线监控与过程控制。
以下参数为QUASAR-S系列的核心对比,具体型号可根据工艺需求选配。
QUASAR-S-20
测量范围:0.5–20 μm
测量精度:±0.5 μm
重复性:±0.2 μm
数据刷新率:1 kHz
光源与检测:405 nmLED,光学传感器阵列
接口与输出:Ethernet, 4–20 mA, USB
校准方式:自动零点与日常自校准
电源功耗:<25 W
适用场景:高精薄膜涂层、PET、聚酰胺薄膜等低至中厚度工艺
外形与尺寸:紧凑型模块,便于夹装与前端对位
QUASAR-S-50
测量范围:1–50 μm
测量精度:±0.8 μm
重复性:±0.3 μm
数据刷新率:800 Hz
光源与检测:405 nm LED 加高速探测
接口与输出:Ethernet, OPC-UA, Modbus TCP, USB
校准方式:自动标定板与薄膜参考样件
电源功耗:<40 W
适用场景:中厚膜涂布、光学薄膜、医疗膜层等
特点:更广的工作距离与更强的表面散射鲁棒性
QUASAR-S-100
测量范围:2–100 μm
测量精度:±1.0 μm
重复性:±0.5 μm
数据刷新率:600 Hz
光源与检测:455 nm可选 LED 与多通道探测
接口与输出:Ethernet, OPC-UA, Modbus TCP, USB-C
校准方式:自动标定、在线温度补偿
电源功耗:<60 W
适用场景:中厚涂层、金属化膜、聚合物涂覆
特点:支持大面积视场,便于涂覆均匀性分析
QUASAR-S-200
测量范围:5–200 μm
测量精度:±2.0 μm
重复性:±0.8 μm
数据刷新率:300 Hz
光源与检测:405/455 nm 双波长选配
接口与输出:Ethernet, OPC-UA, Modbus TCP, USB-C, CSV导出
校准方式:多点标定、阵列参考样件
电源功耗:<90 W
适用场景:厚膜涂层、工业膜材、保护膜等高厚度场景
特点:大视场与更深的耦合分析能力,便于制程综合评估
共性参数与特性
场景化FAQ
总结 QUASAR-S系列以多型号覆盖不同膜厚区间的需求,结合高稳定性、快速响应和开放的数据接口,为实验室与工业现场提供可追溯的在线膜厚监测解决方案。无论是薄涂层的均匀性分析,还是中厚膜的过程控制,QUASAR-S能够通过模块化配置与灵活集成,实现对膜层生长、干燥与固化阶段的全流程监控与优化。若您希望了解具体型号在您工艺线上的适配性、报价或定制化需求,欢迎联系现场技术支持,我们可以安排专项演示与现场参数评估。
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