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工业在线膜厚测量设备 QUASAR-S系列

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详细介绍

 应用于集成电路芯片制造生产线上的光学膜厚测量设备,适用于6、8、12吋生产线,产品技术成熟,测量精度高,测量速度快,技术上已达到国际同类竞争产品水品,可实现纳米级厚度测量。

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产品特点

 

  • 适用于150mm、200mm、300mm晶圆、碳化硅及MicroLED等领域

  • 适用于Open cassette、SMIF、FOUP样品装载接口

  • 可见、紫外及红外SE测量系统及SR测量系统

  • 单层膜厚、折射率及吸收系数测量以及多层膜测量 

  • 超高产能,可达每小时120片

  • 超高精度,可达0.005nm(3倍标准偏差)

  • 多图案识别定位功能

  • 无图案样品精确定位功能

  • Waferless recipe功能

 

产品参数

 

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