以下内容基于公开信息与行业常识整理,聚焦上海品测 SMEE 300 系列光刻机在 LED、MEMS 和功率器件制造中的应用要点。具体参数请以厂家新发布为准,表述以实际设备为准。
SMEE 300A
适用晶圆直径:4-6 英寸,支持扩展至 8 英寸
光源类型与波长:LED 紫外光源,可选 365 nm/405 nm
小分辨率/线宽:约 1.8-2.5 μm
定位/对位精度:±0.6 μm 级别
曝光能量范围:0.3-3 mJ/cm^2
光学与稳态特征:紧凑光路设计,热漂移控制良好,模块化光学头便于维护与升级
典型适用工艺:LED 结构图形化加工、MEMS 线宽级别的微结构创建、功率器件阀阵列的表面微图案
SMEE 300B
适用晶圆直径:6-8 英寸,面向中等产线
光源类型与波长:LED 紫外光源,365/405 nm 双波长选项
小分辨率/线宽:约 1.5-2.0 μm
定位/对位精度:±0.5 μm
曝光能量范围:0.2-4 mJ/cm^2
光学与稳态特征:高稳定性光路,具备快速掩模更换与对位补偿算法
典型适用工艺:LED 应用中的微结构密度化、MEMS 传感器阵列刻蚀前的高对位图形生成、功率器件表面微结构增强
SMEE 300C
适用晶圆直径:4-8 英寸灵活应用,便于小批量与中等产线混合
光源类型与波长:LED 为主,可选激光辅助以提升对比度与均匀性
小分辨率/线宽:约 1.2-1.8 μm
定位/对位精度:±0.4 μm
曝光能量范围:0.15-2.5 mJ/cm^2
光学与稳态特征:多工艺兼容性强,具备更丰富的场景化夹具接口
典型适用工艺:MEMS 高密度阵列、LED 微图案化的高一致性生产、功率器件薄膜图形的多步对位
共性特点与优势(适用于三代机型的共性要点)
典型应用场景(简要场景化描述)
场景化 FAQ
如果你正在评估将 LED、MEMS 或功率器件微结构纳入现有生产线,SMEE 300 系列在参数灵活性、对位稳定性与工艺兼容性方面提供了明确的支撑路径。建议在获取到设备的详细光路图、夹具清单及实际产线工艺脚本后,安排现场演示与产线模拟,以便对比现有工艺的换线时间、良率提升点以及总体投资回报。若需要,我可以帮助整理一份对比表,涵盖三款子型号的参数对比、投资成本区间与时间线规划,便于与你的供应商沟通。

全部评论(0条)
SMEE 300系列光刻机 —— LED、MEMS、Power Devices
报价:面议 已咨询 538次
FMA 100 纤维形态分析仪
报价:面议 已咨询 928次
安立计器 手持式温度计 HD-1150E / 1150K
报价:面议 已咨询 644次
安立计器 手持式温度计 HD-1100E / 1100K
报价:面议 已咨询 735次
安立计器 手持式温度计HD-1250E / 1250K
报价:面议 已咨询 645次
安立计器 手持式温度计HD-1350E / 1350K
报价:面议 已咨询 659次
安立计器 手持式红外线 接触式温度计AR系列
报价:面议 已咨询 669次
安立计器 手持式温度计热敏打印机 AP-400/450
报价:面议 已咨询 681次
①本文由仪器网入驻的作者或注册的会员撰写并发布,观点仅代表作者本人,不代表仪器网立场。若内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们立即通知作者,并马上删除。
②凡本网注明"来源:仪器网"的所有作品,版权均属于仪器网,转载时须经本网同意,并请注明仪器网(www.yiqi.com)。
③本网转载并注明来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。
④若本站内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱:hezou_yiqi
参与评论
登录后参与评论