不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
70,250或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁
向上、向下或侧面溅射
RF、DC以及脉冲DC溅射
共溅射、反应溅射
组合溅射
RF或DC偏压(1000V)
样品台可加热到700°C
膜厚监测仪
基片的RF射频等离子清洗
预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
光学以及ITO涂覆
带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
带RF射频等离子放电的反应溅射
NSC-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统
NSC-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统
NSC-3000:PC计算机全自动控制的台式系统
NSC-1000:半自动控制的台式系统
NSR-4000:溅射/RIE系统
NSP-4000:溅射/PECVD系统
NST-4000:溅射/热蒸发系统
详细介绍
NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点:
选配项:
应用:
型号:
(以下为双系统型号)
产品优势
先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关,RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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解决方案
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