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PECVD等离子化学气相沉积系统

 
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PECVD设备 NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
  • 品牌: 美国那诺-马斯特
  • 型号:NPE-4000(ICPM)
  • 产地:美国
  • NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l...

PECVD等离子化学气相沉积系统技术资料
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