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化学气相沉积为一种化工技术,在衬底表面上含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质进行化学反应使得薄膜生成为该技术的主要方法。近几十年化学气相淀积这种对无机材料进行制备的新技术发展了起来。化学气相淀积法已经在各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料的淀积,新晶体的研制以及物质的提纯方便得到了非常广泛地应用。这些材料既能够是碳化物、氮化物、硫化物、氧化物也能够为III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,并且能够利用气相掺杂的淀积过程来对它们的物理功能进行精确地控制。化学气相淀积已经变成无机合成化学的一个新领域。
气相沉积系统应用
钯的化学气相沉积
对于氢气而言,钯及其合金的吸附作用非常强以及选择渗透性能十分特别,为一种理想的氢气存储或者净化材料。采用钯合金或是钯镀层来对氢净化设备进行生产为钯的大部分用途。亦有些学者通过化学气相沉积法将钯制成薄膜或薄层。以下为具体的做法,钯的制备材料一般采用包括烯丙基[β-酮亚胺]钯(Ⅱ)、钯(η-C3H5) (η-C5H5)以及 钯(η-C3H5)(CF3COCHCOCF3)之类的有着非常低的分解温度的金属有机化合物。采用该种方式可以将非常高纯度的钯薄膜制取出来。
对于材料的制备,化学气相沉积技术为一种相当重要的方式。在对贵金属薄膜和涂层上的作用也相当的重要。当前在航空航天领域我国依然处于发展期,并且化学气相沉积技术的使用的 探索空间也相当的大,该种技术的研究依然需要投入更多的精力来进行。
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