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晶圆清洗设备 兆声清洗机 那诺-马斯特价格:面议
- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC系列/LSC系列
- 产地:美国
Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC-4000
- 产地:美国
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC-3000
- 产地:美国
SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC-5000
- 产地:美国
SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级为多系统的集成...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC-3000
- 产地:美国
SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗,以及兆声辅助的光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC-4000
- 产地:美国
SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗,以及兆声辅助下光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试...
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硅片清洗设备 进口晶圆清洗机 那诺-马斯特价格:面议
- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC系列/LSC系列
- 产地:美国
进口晶圆清洗机:Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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晶圆清洗机 硅片清洗机 那诺-马斯特价格:面议
- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:SWC系列/LSC系列
- 产地:美国
硅片清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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单晶圆/掩模版兆声清洗机解决方案
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兆声晶圆清洗技术应用
兆声晶圆(掩模版)清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。兆声晶圆(掩...
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兆声晶圆清洗技术应用
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单晶圆/掩模版兆声清洗机产品文章
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兆声清洗技术原理、优势及应用
1 兆声清洗技术背景Schwartzman等人,1993在SC1、SC2清洗时使用了兆频超声技术,获得前所未有的清洗效果,使得该方法在清洗工艺中被广泛采用,也引发了对超声波增强清洗效果的规律与机理的研...
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单片晶圆清洗机的详细资料概述
单片晶圆清洗机是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。单片晶圆清洗机提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表...
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晶圆清洗机主要结构特点及工艺流程
一.产品结构晶圆清洗机主要结构特点:1、采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业2、采用第三代技术,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落3、全自动补液技术4、*的硅片干燥前处理技术,...
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兆声清洗技术原理、优势及应用
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仪企号那诺—马斯特中国有限公司
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