透射电镜载网支持膜

　　透射电镜样品在制样时，为了确保样品能搭载在“载网”上，会在“载网”上覆一层有机膜，称为“支持膜”。这种具有支持膜的载网，称为“载网支持膜”。当样品接触载网支持膜时，会很牢固的吸附在支持膜上，不至于从载网的孔洞处滑落，以便在透射电镜上观察。

无孔碳支持膜系列

　　碳支持膜：

　　是在方华膜上再覆盖一层碳，是Z常见并被广泛采用的支持膜。由于碳层具有抗热性和导电性，增强了方华膜的牢固和稳定性，弥补了无碳方华膜的许多缺陷。喷镀的碳颗粒很细，通常小于1nm，是200kV透射电镜下观察纳米材料的Z佳选择。膜总厚度：10-20nm。推荐选用230目载网。

　　纯碳支持膜：

　　是在载网的反面有一层可移除的方华膜，载网正面覆盖较厚的碳层。当观察有机溶剂分散过的样品时，溶剂会将载网反面的有机层溶去，只留下纯碳膜和被观察样品。与其它膜相比，碳的密度较高，散射能力较强，机械性能及化学稳定性好，进而可减少样品的热漂移，增强样品稳定性。对于较高温下处理的样品，也有明显的优势。由于它比碳支持膜的碳层厚，背底影响较大，适合观察10nm以上的样品。膜总厚度：20-40nm。推荐选用400目载网。

　　薄纯碳支持膜：

　　是没有附带任何有机层的薄型纯碳膜，由于膜层薄，透射电镜观察样品时背底影响小，特别适合分散性较好，带有机包覆层的核壳结构之类的纳米材料样品。在操作上膜总厚度：7-10nm(根据实验要求还可以更薄，达到3-7nm)。推荐选用400目载网。

　　超薄碳支持膜：

　　是在具有微孔支持膜(微栅)上再覆盖一层薄的碳层。它是没有方华膜背底的纯碳膜。是针对观察10nm以下，分散性较好的纳米材料所生产的一款支持膜。用户可通过覆盖着超薄碳支持膜的微孔观察样品。膜层较其它种类的支持膜都要薄，所以可以获得很好的高分辨像。特别适用于低衬度的高分辨透射电镜，并且是能量过滤检测的理想产品。膜厚度：3-5nm。推荐选用230目载网。

有孔碳支持膜系列

　　微栅支持膜：

　　是具有微小孔洞的支持膜，是高倍透射电镜下观察纳米结构像的Z佳选择。由于微栅膜采用较特殊的有机材料，所以其牢固性优于方华膜。采用微栅支持膜的主要目的是为了让样品能在孔洞处或孔边缘观察样品。病毒或细菌颗粒一般会附着在微栅孔的边缘，一维纳米材料可搭载在微孔两端，因此没有基底物质的干扰。更便于微束分析，获得单颗粒电子衍射像。常见孔径大约2-8μm。膜厚度：15-30nm。推荐选用230目载网。

　　纯碳微栅支持膜：

　　是在载网的一面有一层可去除的有机膜，当放入溶剂中有机膜被溶去，载网另一面的纯碳微栅膜不会受影响而保留下来。它既拥有纯碳支持膜耐有机溶剂腐蚀和耐高温等特点，又具备微栅支持膜在高倍透射电镜下观察样品高分辨像的优势。更便于微束分析或获得单颗粒电子衍射像。膜总厚度:15-30nm。推荐选用230目载网。

　　FIB微栅支持膜：

　　专用于FIB(聚焦离子束)分析技术领域，微栅中的微孔直径通常为8-15μm。由于它所承载的样品大多为微电子器件，所以要求膜面必须具有良好的样品黏附性。采用专用的定向标识载网。膜总厚度：15-30nm。推荐选用200目载网。

　　多孔碳支持膜：

　　是一款适合纳米材料表征的新型支持膜产品。支持膜上分布大小不均的微孔(约2-15μm)。微孔数量少于微栅，膜面积占较大部分。使用时可在低倍透射电镜下观察样品的形貌像，高倍下观察微孔上的样品的高分辨像。膜厚度：15-20nm。推荐选用230目载网。

　　Quantifoil规则多孔支持膜：

　　是精密排列有各种尺寸、形状微孔的支持膜。与普通多孔碳膜相比，其固定的几何外形便于在透射电镜上进行自动化操作。孔表面积大，可降低支持膜干扰造成的样品失真。这在电子衍射，电子能量损失谱成像和暗场成像中非常重要。可用于支撑超薄碳膜或直接作为较大样品的载体。此种膜还可应用于物质纳米特征研究，如生物大分子复合体在载体自由悬层的研究。膜孔径的定制范围为1-7μm。膜厚度：18-20nm。

　　C-flat纯碳多孔支持膜：

　　是应用于Cryo-TEM的shou选支持膜。较其他种类的多孔支持膜平整度高，较Quantifoil多孔支持膜纯净，没有任何残留有机层。由于其超高的平整度可使冰层平整，颗粒分布均匀。是样品进行单颗粒分析，低温三维重构和自动透射电镜分析的Z好选择。

非碳材料支持膜

　　透射电镜非碳材料支持膜主要包括：方华膜，镀金支持膜，镀锗支持膜，氧化硅支持膜，氮化硅薄膜窗格等。

　　无碳方华膜：

　　化学成分是聚乙烯醇缩甲醛，可溶于二氯乙烷或三氯 甲烷溶液。膜强度高，透过率好。由于没有任何镀层物质，所以有机膜弹性好，背底影响小，是承载超薄切片的理想材料。但因其导电性能不好，在电子束照射下会因高温或电荷积累引起局部受热碳化，产生黑斑。引起样品漂移，甚至使膜破碎。通常在100kV透射电镜上使用较多。膜厚度：10-15nm。推荐选用200目载网。

　　镀金支持膜：

　　主要用于不能以碳为衬底的电子显微表征。便于EDS检测。由于金的化学性质非常稳定，可以用来校正电子显微镜的放大倍数和电子衍射相机长度，标定高分辨像的晶格条纹间距。膜厚度：10-20nm。推荐选用200目载网。

　　镀锗支持膜：

　　具有化学性质稳定，衬度好等优点。可以用来校正电子显微镜的放大倍数和电子衍射相机长度，标定高分辨像的晶格条纹间距。由于锗的原子序数低于金，产生的背底噪音优于金膜，所以可以改善透射电镜像的衬度。

　　氮化硅薄膜窗格：

　　可承受1000℃的高温。在高温条件下研究或制备纳米材料时，需要选用完全无定形的高强度氮化硅支持膜。当对碳进行EDS分析时，不会有碳峰干扰。

　　氧化硅薄膜窗格：

　　弹性较好，适用于各种样品制备技术，在电子束轰击下比较稳定，衬度及亲水性较碳膜稍差。

特型载网支持膜

　　透射电镜除了通常使用的圆孔和方孔载网支持膜外，特殊应用时会选择一些特型载网制作的支持膜。如光圈载网，狭缝载网，双联载网等。

　　光圈载网支持膜和狭缝载网支持膜：

　　通常用来蘸取连续超薄切片。由于其网格稀疏所以对组织结构极少遮挡。但因其网孔较大，支持膜制作成功率往往不高，通常采用增加支持膜厚度来增强支持膜的强度。但支持膜过厚，会影响样品的清晰度。

　　双联载网支持膜：

　　可应用于磁性样品或对支持膜附着力差的样品。使用时将样品架在双联网间，可起到很好的固定作用，也可减少由于样品的不稳定性对透射电镜造成的污染。