鑫图科学成像解决方案，助力半导体先进制程迈向国产攻坚新阶段！

当下，28~14nm半导体制程检测设备已基本实现自主可控，正处于工艺量产、设备与材料快速导入、产能与良率爬坡、国产替代全面铺开的关键阶段。鑫图正是这一历程的深度参与者。

半导体纳米级先进制程的缺陷检测，已超越传统机器视觉“寻找明显瑕疵”的范畴，演变为在复杂背景中捕捉微弱缺陷信号、在多层结构间定位微小异常的技术极限挑战，必须依赖科学级弱光成像这一核心技术。

随着先进制程向微观化、复杂化发展，单一机器视觉技术已难以实现极限突破，多模态技术融合已成为国产半导体先进制程的必然方向。这一趋势虽构筑了高产业门槛，也为基础科研成果产业化带来重大机遇。

“在这一领域，鑫图具备长期积累形成的科学成像系统性技术优势。历经二十年技术攻关与人才积累，公司不仅具备对前沿技术发展的持续跟踪能力，还构建了涵盖物理、光学、算法等方向的跨学科人才体系，能够基于基础学科方法解决复杂成像问题，为客户提供从光谱匹配到光路优化，从低噪声光电信号链路设计到高速数据稳定传输保障的全流程技术支撑。”

——鑫图半导体业务总监，林静

本届VisionChina展会，鑫图针对成熟制程与先进制程攻坚，推出了全链路成像解决方案。诚邀科研用户与设备厂商莅临鑫图展位（W4?4543）现场洽谈交流，共探半导体先进制程设备国产突围全链路解决方案。