第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于4月24日在上海浦东张江维景国际酒店3 楼睿景厅开幕，本次论坛将主要聚焦在高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。
作为深耕精密测量领域15 载的行业标杆，优尼康/ 翌颖科技 荣膺本次论坛赞助商。优尼康累计服务客户已超 2000 家，我们期待在会场与您交流，共话半导体测量技术的创新未来。
特别邀请优尼康/翌颖资深应用技术经理陆伟发表主题演讲。他将深挖光掩膜与光刻胶工艺中的核心量测痛点，分享测量技术如何精准把控工艺关键点。
报告主题：
《把控膜之关键：优尼康薄膜测量技术在光掩膜及光刻胶工艺中的应用》
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精密薄膜测量专家
优尼康科技有限公司 ｜ 翌颖科技（上海）有限公司
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会议时间：
2026年4月24日
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展会地点：
上海·浦东张江维景国际酒店3 楼睿景厅
现场特邀报告
演讲人介绍
陆伟 ｜优尼康/翌颖科技 应用技术经理
拥有多年半导体及薄膜测量行业背景，专注于化合物材料测量应用及半导体工艺全流程优化。在设备端突发问题处理及量测技术创新方面具备极强的实战功底。多次参加国内薄膜检测技术研讨会，与同行交流，拓展视野，也为公司引入了新的理念和技术资源。确保检测设备从应用开发到客户使用的全流程顺畅衔接，通过技术赋能驱动半导体检测设备的价值最大化，为提升公司整体竞争力添砖加瓦。
演讲报告题目
把控膜之关键：优尼康薄膜测量技术在光掩膜及光刻胶工艺中的应用
报告时间：
4月24日 15:15
会议议程
Filmetrics F20 单点便携式膜厚仪 | ||
无论您是想要知道薄膜厚度、光学常数，还是想要知道材料的反射率和透过率，F20都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装，通过USB连接电脑，设备就可以在数秒内得到测量结果。基于某模块化设计的特点，F20适用于各种应用。 | ||
相关应用：光刻胶、工艺薄膜、介电材料、硬涂层、Parylene、抗反射层、医疗设备、OLED、玻璃厚度、ITO与其他TCO。 |
Filmetrics F50 自动Mapping膜厚仪 | ||
F50可以非常简单地获得最大直径450毫米的样品薄膜厚度分布图。采用r-θ 极坐标移动平台，可以快速定位所需的测试点并且实时获得测试厚度，大约每秒测试两点。 | ||
相关应用：半导体制造（光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨）；LCD 液晶显示器（聚酰亚胺、ITO 透明导电膜）；光学镀膜（硬涂层、抗反射层）；MEMS 微机电系统（光刻胶、硅系膜层）。 |
感谢阅读
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