优尼康：膜厚测量技术在微电子化工品行业的应用

我司（优尼康）工程师在苏州一家专业生产微电子化学品的工厂进行装机服务。

该企业主要生产光刻胶、配套试剂、高纯化学试剂等黄光区湿化学品，应用于FPD(LCD、TP、OLED、CF)、LED、IC等相关电子行业，拥有数项国家发明ZL和高新技术产品，是江苏省高新技术企业。与国内大部分相关厂商保持业务联系。

前期经过一段时间的沟通以及测试，Z终选择了美国Filmetrics的F20、F40、F20-NIR  等三款机器，帮助企业解决光刻胶厚度测量的问题，光刻胶的厚度测量帮助企业更好的改进工艺，把关质量，减少损耗，助力企业的发展。

为什么选择美国Filmetrics膜厚测量仪？

主要单击鼠标，我们就可以通过分析薄膜的反射光谱来测量薄膜的厚度，通过非可见光的测量，我们可以测量薄至1纳米或厚至13毫米的薄膜。由于没有任何的可移动的零件，测量结果可在几秒钟显示：薄膜厚度、颜色、折射率甚至是表面粗糙度。