捷克泰思肯 TESCAN MIRA 场发射扫描电镜
捷克泰思肯 TESCAN VEGA 钨灯丝扫描电镜
捷克泰思肯 TESCAN VEGA 钨灯丝扫描电镜
捷克泰思肯 TESCAN VEGA COMPACT 钨灯丝扫描电镜
捷克泰思肯 集成矿物分析仪 TIMA-X FEG(LM)
TESCAN MIRA 场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点(如改进的高性能电子设备使成像过程更快,快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿,有内置的编程软件等),同时保持着zui高的性价比。
MIRA 的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用,例如:EBSD、WDX等分析。
现代电子光路
高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像
独特的三透镜大视野观察(Wide Field Optics™)设计提供了多种工作与显示模式
独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”,它以电磁方式有效地改变物镜光阑
结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪(In-Flight Beam Tracing™),可模拟和优化电子束
可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像
电镜的全自动设置
成像速度快
使用3维电子束技术,实时得到立体图像,三维导航
维修简单
现在保持电镜处在优秀的状态很简单,只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细,使得仪器的效率zui大化,操作zui简化。
自动操作
设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外,电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序,能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言(Python)可进入软件的大多数功能,包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。
用户界面友好的软件与软件工具
多语言操作界面
多用户界面(包括了EasySEMTM模式)不同账户的权利使常规分析过程更快
图片管理,报告生成
内置的系统检查与系统诊断
网络操作与远程进入/诊断
模块化软件体系结构
标准软件包括了测量、图像处理、对象区域,等模块
可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建,等模块
MIRA AMU
特大样品室定制版
注:对于yi疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和yi疗器械产品注册证情况
免费上门安装:是
保修期:1年
是否可延长保修期:是
保内维修承诺:免费维修,更换零部件
报修承诺:8小时响应,3天内到达现场
免费仪器保养:3月1次
免费培训:免费上海应用zhong心培训
现场技术咨询:有
报价:面议
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S-4800型高分辨场发射扫描电镜(简称S-4800)为日本日立公司于2002年推出的产品。该电镜的电子发射源为冷场,物镜为半浸没式。在高加速电压(15kV)下,S-4800的二次电子图像分辨率为1 nm,这是目前半浸没式冷场发射扫描电镜所能达到的最高水平。该电镜在低加速电压(1kV)下的二次电子图像分辨率为2nm,这有利于观察绝缘或导电性差的样品。S-4800的主要附件为X射线能谱仪。
二手 日立 SEM+EDX 冷场电镜SU8000系列高分辨场发射扫描电镜,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探测器设计上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三个Everhart-Thornley型探测器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多种信号,实现微区的形貌衬度、原子序数衬度、结晶衬度和电位衬度的观测;结合选配的STEM探测器。
日立SU-8010是日立高新技术的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 电子光学系统进行了最优化处理,使得着陆电压在1KV时分辨率较前代机型提高了约20%。另外,最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大,并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了800万倍。除此之外,为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能,还对用户辅助工能进行了强化。
日本电子扫描电镜JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的钨灯丝扫描电镜。颠覆性的前卫性外观设计还特别吸引眼球。操作改为触摸屏控制,简单化,从此操作电镜非常只能化。
扫描电子显微镜主要用于观察物体的表面形貌像,除此意外,如果配备能谱分析系统,在进行获得样品表面像的时候,还可以对样品的某个定点位置进行元素的半定量分析。根据EDS分析出的元素比例,进行拟合处理,可以大概的判断出样品是什么类型的样品。
SU3900/SU3800 SE系列作为FE-SEM产品,配置超高分辨率与观察能力。此系列突破了传统SEM产品受安装样品尺寸与重量的限制,通过简单的操作即可实现数据采集。可用于钢铁等工业材料,汽车、航空航天部件等超大、超重样品的观察。 此外,SE系列包括4种型号(两种类型,两个等级),满足众多领域的测试需求。用户可以根据实际用途(如微观结构控制:用于改善电子元件、半导体等材料的功能和性能;异物、缺陷分析:用于提高产品品质)选择适合的产品。
德国Zeiss 场发射电子显微镜SIGMA 300 ,ZLGemini镜筒,超高的束流稳定性,超高的束流稳定性,zhuo越的低电压性能,In Lens 探测器,磁性材料高分辨观察,ding级X射线分析设计,便越操作系统设计,超大空间,多接口,升级灵活。
德Zeiss 电子束直写仪 Sigma SEM,利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(Z小线宽为10nm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。