产品介绍：
日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000
--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像--
日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射
扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。
扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。
这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。
另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是du一无二的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，zui大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了chao强的功能与强大的扩展性。
日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览zhong心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。
*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、chao强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。
【主要参数】
| 电子枪 | ZrO/W 肖特基式场发射电子枪 |
| 加速电压 | 0.5~30kV |
| 着陆电压 | 0.1~2kV |
| 分辨率 | 2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2） |
| 放大倍率 | 底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍 |
| 5轴马达台 | X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° |
*1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项
报价：面议
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日立紧凑型毛细管电泳DNA测序仪DS3000结构紧凑，同时秉承于日立优异的毛细管及激光检测技术，可轻松完成测序与片段解析。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够Z大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。
离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。
日立高新技术科学公司于2019年3月起，在中国开始销售利用光干涉原理进行非接触式无损伤三维表面形态测量的纳米尺度3D光学干涉测量系统“VS1800”，该产品搭配有支持多目的表面测量国际标准“ISO 25178*1参数对比工具”，通过简单而准确的样品测量支持客户的分析业务，与此同时，凭借不断创新积累的三维测量性能，实现高精度、高分辨率的表面性状的测量。
标准配备改良过的测量参数自动调整功能，以及简单明了的图形用户界面。因此，即使是刚刚接触SPM的人，或者测量某种全新的样品时，也能取得具有较高再现性的数据。
AFM5100N除了激光检测方式之外，全新的「自检测悬臂」，在保证高分辨表面形貌观察的同时，大大简化了AFM悬臂操作。
AFM5300E是一款环境型原子力显微镜，它的环境控制单元可以使样品在大气中、真空中、溶液中等环境中进行测量。AFM5300E还具有高低温控制功能，可以检测温度对样品表面形貌和物理特性的影响。
营业执照未审核
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