德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机

德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500

关键特性

.PTSA 200 ICP源

.动态温度控制

.高速泵送

程序功能

.低损坏

.高纵横比

.高蚀刻率

Technical features 技术特点

●ICP, 1100 W, 13.56 MHz 

●1360 l/s turbo pump, rotary or dry backing  pump  1360l /s涡轮泵旋转背衬或干背衬泵

● Magneto pneumatic  loadlock 磁力气动锁

● Up to 8 inch wafers 高达8英寸的晶圆

● Gas box for 12/16 gas lines  燃气箱用于12/16管道

● SENTECH operation software based on Window 置于Sentech 操作软件窗口

● OES, SLI, liner, heater,chiller, reactor shut-off valve optional  OES 、SLI， 衬里， 加热器、冷水机、反应器关闭阀 可选