产品介绍:
AFM5500M II全自动扫描探针显微镜除了配置高精度平板扫描器和各种测量自动化功能,还有两种共享坐标样品台功能。通过多种设备的关联解析,实现了单个设备无法实现的多维缺陷评价和故障解析。
主要特点:
1. AFM自动化测量
• 通过自动化控制大大提高效率,自动探针安装,自动光轴调整,自动参数优化;
• 排除人为操作失误导致的测量误差,一键自动测量/处理/分析(提高整体测试效率)

2. 可靠性
排除机械原因造成的误差
大范围水平扫描
采用管型扫描器的原子力显微镜,针对扫描器圆弧运动所产生的曲面,通常通过软件校正方式获得平面数据。但是,用软件校正方式不能完全消除扫描器圆弧运动的影响,图片上经常发生扭曲效果。
AFM5500M搭载了全新研发的水平扫描器,可实现不受圆弧运动影响的准确测试。

样品 :硅片上的非晶硅薄膜
高精角度测量
普通的原子力显微镜所采用的扫描器,在竖直伸缩的时候,会发生弯曲(crosstalk)。这是图像在水平方向产生形貌误差的直接原因。
AFM5500M中搭载的全新扫描器,在竖直方向上不会发生弯曲(crosstalk) ,可以得到水平方向没有扭曲影响的正确图像。

样品 : 太阳能电池(由于其晶体取向具有对称结构)
* 使用AFM5100N(开环控制)时
3. 利用探针评价功能进行探针尖 端直径管理
4. SIS模式可有效提高数据可靠性
SIS(Sampling Intelligent Scan)样品智能扫描模式只有在需要测量样品形貌和物性信息时才靠近测量点,自动控制探针位置,完全消除对测量不利的水平力,可测量吸附力较大或粗糙的样品,同时可大幅降低对探针的磨损和对样品的损伤,有效提高数据的可靠性。
5. 支持机械物性/电磁物性等广泛的物性测量
扫描探针显微镜是一种不仅可以测量形貌,还支持各种物性检测的显微镜。AFM5500MⅡ支持可同时获取弹性模量、形变、吸附力和摩擦力等各种机械物性的SIS-ACCESS/SIS-QuantiMech功能、以及导电性、压电分布和表面电位等各种电磁物性测量。
6. 新的表面电位势测量模式 AM-KFM/FM-KFM(可用于定量和灵敏度等不同场景)
除调幅开尔文力显微镜(AM-KFM)外,AFM5500MⅡ还新增了调频开尔文力显微镜(FM-KFM)。FM-KFM与AM-KFM相比,信号主要来自于探针的尖端,电位检测灵敏度更高,在电位的定量分析上更胜一筹。AM-KFM适用于单一材料间的电位和功函数对比等,FM-KFM适用于测量需要进行精细周期结构和海岛结构量化的复合材料,两种模式通过点击即可自由切换。

7. 使用AFM、SEM、CSI等不同显微镜观察同一位置,实现多维度解析
通过SEM、AFM、CSI等进行样品的同一位置测试,可以对目标视野进行多维度解析,实现数据的参照对比。日立高新可以提供特有的SEM/AFM/CSI同视野观察,实现联动分析。
使用共享样品台进行坐标联动,或通过全新的AFM标记功能,可以在AFM、SEM、CSI之间快速、轻松地锁定同一视野,进一步扩大了联动分析的应用范围。

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Park NX-Hivac通过为失效分析工程师提供高真空环境来提高测量敏感度以及原子力显微镜测量的可重复性。与一般环境或干燥N2条件相比,高真空测量具有准确度好、可重复性好及针尖和样本损伤低等优点。
高精度探针针尖变量的亚埃米级表面粗糙度测量,晶圆的表面粗糙度对于确定半导体器件的性能是至关重要的,对于先进的元件制造商,芯片制造商和晶圆供应商都要求对晶圆商超平坦表面进行更精确的粗糙度控制。
对于工程师来说,识别介质/平面基底的纳米级缺陷的任务是一个非常耗时的过程,Park NX-HDM原子力显微镜系统可以自动缺陷识别,通过与各种光学仪器的联用可以提高缺陷检测效率。
Park Systems推出NX-3DM全自动原子力显微镜系统,专为垂悬轮廓、高分辨率侧壁成像和临界角的测量而设计。
CSI是一家法国科学设备制造商,拥有专业的AFM设计概念,以及为现有的AFM提供设计选项。它避免了激光对准需要预先定位针尖的系统,针尖/样品的顶部和侧视图,结合垂直的马达控制系统,使预先趋近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同时提供原子力显微镜成像和纳米机械测量。它综合了这两种技术的优点,可高速获得高分辨率的三维图像,并且在微纳米和亚纳米尺度上实时观察纳米级力的相互作用,与常规SEM/FIB兼容,