上海伯东Pfeiffer涡轮分子泵Hipace 10-800,抽速范围 10-800 l/s 的全系列分子泵, 涡轮分子泵Hipace 10-800 快速启动时间,集成控制器,带有多样化的接口-Profibus,DeviceNet 或者 E74。由于采用了革新的电子元器件材料,Pfeiffer 涡轮分子泵集成控制器的使用寿命比原来要长2倍。
分子泵 Hipace 10-800 l/s 产品优点:
1.抽速从10-800l/s的全系列产品
2.分子泵结构紧凑,占用空间小
3.高气流量,高抽速
4.集成,高效的冷却系统
5.Hipace 分子泵可以实现任意角度安装
6.防护等级IP54符合工业环境应用要求
7.可以提供适合腐蚀气体的分子泵型号
8. SEMI S2 和 UL 认证
9.完整的配件系统满足不同客户需求
10.更长的分子泵维护保养时间
11.可现场更换分子泵轴承
分子泵 Hipace 10-800 l/s 技术参数:
分子泵型号 | 分子泵连接尺寸 DN | 抽速 l/s | 压缩比 | 最高启动压强 hPa | 极限压力 | 全转速气体流量 hPa l/s | 启动时间 | 重量 | |||
进气口 | 排气口 | 氮气 | 氦气He | 氢气 H2 | 氮气 | 氮气N2 | 氮气N2 | min | kg | ||
HiPace 10 | 25 | 16 | 10 | 6 | 3.7 | 3X106 | 25 | < 5X105 | 0.37 | 0.9 | 1.8 |
HiPace 60 P | 63 | 16 | 64 | 48 | 28 | 1X106 | 4 | < 1X107 | 9.2 | 1.1 | 2.2 |
HiPace 80 | 63 | 16 | 67 | 58 | 48 | > 1X1011 | 22 | < 1X107 | 1.3 | 1.75 | 2.4 |
HiPace 300 HiPace 300 P HiPace 300 Plus | 100 | 16 | 260 | 255 | 220 | > 1X1011 | 15(控制器TC 110) | < 1X107 | 5(控制器TC 110) | 3.5(TC 110) | 5.8 8.2 |
HiPace 400 | 100 | 25 | 355 | 470 | 445 | > 1X1011 | 11 | < 1X107 | 6.5 | 2 | 11.6 17.5 |
HiPace 700 HiPace 700P HiPace 700 Plus | 160 | 25 | 685 | 655 | 555 | > 1X1011 | 11 | < 1X107 | 6.5 | 2 | 11.5 17.4 |
HiPace 800 HiPace 800 P | 200 | 25 | 790 | 700 | 580 | > 1X1011 | 11 | < 1X107 | 6.5 | 2 | 12.8 19.1 |
HiPace Plus 分子泵是为电子显微镜和高端质谱行业量身定做的产品。HiPace C 系列分子泵是为腐蚀性气体应用环境而设计的。此外上海伯东还提供分子泵 HiPace P 系列,因其能抵抗工业粉尘和微小粒子而广泛应用于工业领域。
分子泵 Hipace 10-800 l/s 适用领域:
1.分析仪器(质谱分析法、显微镜等)
2.半导体行业(电子组件、集成电路、太阳能电池等)
3.光学/玻璃行业(隔热保护、防反射、反射、滤光镜镀膜等)
4.真空镀膜技术(表面保护、装饰土层、显示技术、屏幕等)
5.真空冶金(真空焊接、真空烧结、真空合金、真空炉等)
6.泄漏检测(真空系统、机车燃料箱、安全气囊、真空包装行业)
7.科研设施(核粒子物理学、核聚变研究、激光应用等)
8.灯具行业(灯具生产等)
上海伯东主营真空品牌:德国 Pfeiffer 真空设备;美国Brooks Polycold 深冷泵;美国 KRI 考夫曼离子源;美国 HVA真空闸阀:美国 inTEST(Temptronic)高低温循环试验机;日本 NS离子蚀刻机等。
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润滑油
伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机 IBE. 提供微米级刻蚀, 均匀性: ≤±5%, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
上海伯东日本原装进口适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机, 一般通氩气 Ar, 内部使用美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 产生轰击离子; 终点检出器采用 Pfeiffer 残余质谱监测当前气体成分, 判断刻蚀情况.
Aston™ 特性 实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝 半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据 采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用 可与大批量生产工具完全集成 Aston™ 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
氦质谱检漏仪 ASM 340 优点 1. 前级泵配备旋片泵(油泵)Adixen Pascal 1015 I 抽速高达15 m3/h 2. 分流式分子泵 Pfeiffer Splitflow 50 对氦气抽速 2.5 l/s 3. 氦质谱检漏仪 ASM 340 对氦气的Z小检测漏率: 真空模式: 5E-13 Pa m3/s 吸枪模式: 5E-10 Pa m3/s 目前业界公认Z小漏律 4. 移动式操作面板(有线, 无线) 5. 集成 SD卡, 方便资料处理 6. 抗破大气, 抗震动, 降低由操作失误带来的风险性 7. 丰富的可选配件, 如吸枪, 遥控器, 小推车, 旁路装置, 标准漏孔等 8. 检测时间短
氦质谱检漏仪 ASM 390, ASM 392 优势: 1. 强大的抽空能力 2. 极短的测试时间, 3. 大尺寸彩色触摸屏, 无需任何工具即可完全旋转和拆卸 4. 符合人体工学设计, 移动性强 5. 通过 CE 认证, ETL 认证, UL61010 合规, 完全符合 Semi S2 标准 6. 可用于半导体相关行业和平板显示器行业以及其他要求极高的应用