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近距离蒸发镀膜(CSS)炉
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: OTF-1200X-RTP-II
- 产地:沈阳
OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉是一款快速蒸发管式炉,专门用于PVD或CSS法制作薄膜;其炉管外径为11″,炉管内载样盘可放置3″ 的圆形或2″×2″的方形基片;OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体顶端和底部,升温速率高达20℃/s ,可迅速使炉腔内温度升高;冷却速率:>10℃/s,可在镀膜后使样品快速降温;温控系统采用PID30段程序化控制,控温精度为±1℃,并且仪器面板上带有RS485接口,若仪表内配有控温软件,
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450型电子束蒸发镀膜系统
- 品牌:沈阳科晶
- 型号:
- 产地:沈阳
450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。 产品名称 450型电子束蒸发镀膜系统 产品型号 450型电子束蒸发镀膜系统 主要参数 系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 技术指标: 极限真空度:≤6.7×10 Pa 恢复真空时间:从1×10
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六源有机无机联合蒸发镀膜设备
- 品牌:沈阳科晶
- 型号:
- 产地:沈阳
六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室,将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中,PVD与Glove box硬件无缝对接,操控融合一体,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。1、样品在镀膜过程中,带有烘烤加热功能,ZG烘烤加热温度为:室温~180℃,测温控
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小型程序控温蒸发镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1700X-SPC-2
- 产地:沈阳
GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定,并精 确控制温度在200ºC-1500ºC(或者1200ºC-~1700ºC)的范围内进行变化,可蒸镀直径长达2"的薄膜样品,在对样品进行蒸发镀膜的过程中,样品台可进行旋转旋转,以获得更均匀的薄膜。GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪应用范围广,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜,因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪体积小巧,可有效节约实验室空间;操作简单
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溅射蒸镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16C
- 产地:沈阳
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪能够满足扫描电子显微镜样品表面喷金、蒸金或蒸碳过程使用以及非导体材料实验电极的制作,也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。本机体积小,节省实验室空间,操作简单,清理方便,适合初学人员的使用,尤其适用于各大高校的实验室、科研院所、及各企业的实验室的使用。配备了热蒸发附件,可以蒸发碳丝或者
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蒸发镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1800X-ZF2
- 产地:沈阳
GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转,使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元,一个钨舟,一个钨丝篮;钨舟中可以放粉末状的薄膜材料,钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面,TFT式显示屏具有高响应度、高亮度、高对比度等优点,触屏操作,实现全图形化界面,易用易懂。GSL-1800X-Z
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蒸发镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1800X-ZF4
- 产地:沈阳
GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al 、Au等)和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟,每个加热舟都可独立进行蒸镀,加热舟上方有一个可旋转挡板,当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住,以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜,可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求,是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪腔底部配有5个水冷电极,在工作过程中可有效保护
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磁控溅射卷绕镀膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号:
- 产地:沈阳
磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。 产品名称 磁控溅射卷绕镀膜机 主要参数 卷膜条件 镀膜材料:PET 和无纺布 适用制膜:软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。 基材厚度:125~300μm 有效镀膜宽幅:≤800 mm ZD卷绕直径:Φ400 mm 卷绕芯轴内径:4 寸 基
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磁控溅射镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16M
- 产地:沈阳
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用,且设备体积小巧,节约实验室空间;操作简单,适合初学人员使用。1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。 2、通过调节
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超声喷雾热解涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-USP-04CT
- 产地:沈阳
MSK-USP-04CT超声喷雾热解涂膜机,喷胶机采用步进电机和微处理器来控制容积泵,从而保证输液器精确输送溶剂,保证超声喷雾过程的连续性。通过一个超声波雾化器来制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一个步进电机控制喷雾器可在X轴和Y轴方向移动,且移动速度可在一定范围内进行调节,以确保喷涂后的基片表面涂层的均匀性。MSK-USP-04CT超声喷雾热解涂膜机,喷胶机通过一个加热平台来控制基底温度,从而加速薄膜的干燥速度,加热平台的加热温度可高达300℃,在此温度范围内基本可以满足绝大多数实验的需要。·喷雾热解
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火焰辅助喷雾热解涂覆机,喷胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-TH-04FA
- 产地:沈阳
MSK-TH-04FA火焰辅助喷雾热解涂覆机,喷胶机是为研究金属合金、陶瓷表面质量改进而研发的。在加热的基底上喷涂雾化的溶液,从而获得沉积薄膜,即在基底表面形成一种化合物组成结构。而喷雾在沉积到基底之前,被氧化液化气混合物产生的火焰进行了加热。 这种通过液化气火焰在加热的基底上喷雾的技术,在沉积温度下除了所需要的化合物被沉积,其他化学反应的产物都是易挥发的。因此,一般用于在金属和陶瓷基底上沉积氧化物,特别适用于Al2O3、ZnO的沉积,以及ZnO-MgO和ZrO2-Y2O3的亚稳态固溶体在非晶硅或镍基
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超声雾化热解涂覆薄膜机,喷胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-SP-04-LD
- 产地:沈阳
MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机,喷胶机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数,采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动,以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制,以满足实验需要。 产品型号 MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机,喷胶机 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%R
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基本型桌面式喷胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100-SE
- 产地:沈阳
VTC-100-SE基本型桌面式喷胶机是一种满足半导体TSV、MEMS、WLP等工艺制程中异形表面的喷胶作业设备。是一种采用高精度微量液体平流传输和超声波雾化震荡技术均匀喷涂在一定温度的物件表面,多次沉积成均匀涂层膜的纳米喷胶设备。VTC-100-SE基本型桌面式喷胶机采用不锈钢机身,桌面台式设计,结构紧凑,七寸全彩触屏界面,高精密电缸控制,整体设计布局合理,简单易用。1、可台面式操作,外形尺寸紧凑 2、超声波雾化或二流体雾化喷嘴可选 3、底盘旋转加热,XY电缸移动式喷胶 4、可处理ZD基片尺寸为8寸
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8寸柜式喷胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200-SE
- 产地:沈阳
VTC-200-SE 8寸柜式喷胶机是一种满足半导体TSV、MEMS、WLP等工艺制程中异形表面的喷胶作业设备。是一种采用高精度微量液体平流传输和超声波雾化震荡技术均匀喷涂在一定温度的物件表面,多次沉积成均匀涂层膜的纳米喷胶设备。VTC-200-SE 8寸柜式喷胶机采用铝型材机柜,耐腐蚀透明PC板和喷塑机柜钣金组成,美观大方。七寸全彩触屏界面,高精密电缸和伺服系统控制,整体设计布局合理,简单易用。1、全柜式集成结构,工业级设计 2、ZD适合8寸晶圆,向下兼容,基片工装方便更换 3、XYZ三轴电缸设计,
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超声喷雾热解涂膜机,喷胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-USP-04C
- 产地:沈阳
MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机,喷胶机采用步进电机和微处理器来控制容积泵,从而保证输液器精确输送溶剂,保证超声喷雾过程的连续性。通过一个超声波雾化器来制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一个步进电机控制喷雾器可在X轴和Y轴方向移动,且移动速度可在一定范围内进行调节,以确保喷涂后的基片表面涂层的均匀性。MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机通过一个加热平台来控制基底温度,从而加速薄膜的干燥速度,加热平台的加热温度可高达500℃,在此温度范围内基本可以满足绝大多数实验的需要。喷雾热解制膜法,是将溶
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超声雾化旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-300BUSS
- 产地:沈阳
VTC-300BUSS超声雾化旋转涂膜机,是一款集超声雾化、注液、旋涂为一体的液体薄膜制备设备。设备采用箱体结构,VTC-300BUSS超声雾化旋转涂膜机,喷胶机采用微处理器控制容积泵精确输送溶液;雾化器被固定在可在一定范围内摆动的支撑臂上,从而确保涂层的均匀性,通过超声波雾化器喷出的雾状颗粒在基片上沉积作用,可以制备厚度较薄的微纳米涂层;VTC-300BUSS超声雾化旋转涂膜机,喷胶机可吸附的基片直径可长达12"(300mm),涂膜后可对薄膜进行加热快速烘干,以满足实验需要。该设备广泛应用在教育和科
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超声雾化旋转涂膜机,喷胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-300USS
- 产地:沈阳
VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机,喷胶机可以精 确控制溶液化学计量比、雾粒喷出速度、雾粒大小等参数。VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机,喷胶机采用步进电机和微处理器控制容积泵精确输送溶液(溶液可以选择被加热或不被加热);雾化器被固定在可摆动的支撑臂上,从而确保涂层的均匀性,通过超声波雾化器喷出的雾状颗粒在基片上沉积作用,可以制备厚度较薄的微纳米涂层;VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机,喷胶机可吸附的基片直径可长达12"(300mm),同时可控制基底温度使薄膜快速烘干(选择可加热衬底的烘烤
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PA-DC
- 产地:沈阳
VTC-100PA-DC真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。VTC-100PA-DC真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。VTC-100PA-DC真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方
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旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-50A-DC
- 产地:沈阳
VTC-50A-DC旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式,调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制,使得转数在高达1000-8000RPM范围内都非常稳定。涂膜机在工作时设有两个阶段,分别为低转速时间T1阶段与高转速时间T2阶段,在低转速阶段使薄膜液体逐渐分散开,完成注胶的过程,在高转速阶段使薄膜液体在基片表面均匀分散开,形成厚度均匀的薄膜,完成匀胶的过程,在匀胶之前要对匀胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自动停止运转,涂膜的整个过程结束。VTC-50A-DC旋转涂膜机
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微型旋涂机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-50B
- 产地:沈阳
VTC-50B微型旋涂机使用24V电源供电,可放在手套箱中使用,调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制,使得转数在高达100-6000RPM范围内都非常稳定。该涂覆机VTC-50B微型旋涂机主要适用于液体、胶状体、可流动糊状体等薄膜材料的使用,能够在瞬间提供可控的高速转数,迅速使液体、胶状体等材料在衬底上均匀地形成薄膜。样品固定采用带槽的聚丙烯样品卡盘固定基片,根据基片的形状和大小的不同,可在随机配送的模板上开不同形状和大小的槽,使用方便操作简单,对基片无损伤。本机启动快速、转数稳定,可以保证膜层
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迷你型旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-50H
- 产地:沈阳
VTC-50H是一款小型的旋转涂膜机,带有真空吸盘,此设备特别适合在手套箱内使用。设备旋转盘转速为500-8000rpm(可设置)。设备中包含一个加热罩和温度调控器,可快速加热到80℃。此款小型的旋转涂布机可通过手套箱的过度仓,可在Ar环境下的手套箱里使用 产品名称 VTC-50H迷你型旋转涂膜机 产品型号 VTC-50H 技术参数 电源:旋转涂布机:12VDC,15W; 加热罩:24VDC,60W ZD基片尺寸:Φ1
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红外加热喷雾旋转涂覆机、匀胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200-4P
- 产地:沈阳
VTC-200-4P红外加热喷雾旋转涂膜机、匀胶机、显影机、甩胶机、旋涂仪、spin coater主要用于半导体工艺、制版工艺过程中图形的显影及表面涂覆工艺,是一款上盖可以加热的匀胶机、显影机,在匀胶或显影过程结束后使用加热功能使胶体薄膜中的溶剂继续蒸发到含量ZD。工作过程中显影液或胶体以雾状喷到样片上,使溶液在样片表面均匀分布,有利于薄膜和显影过程的顺利进行。本机电机部分、温度控制部分、注液部分分别使用独立电源进行控制,电机调速系统则采用了抗干扰性高的PLC进行控制,转数在100-2000RPM范围
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PAX
- 产地:沈阳
VTC-100PAX真空旋转涂膜机是一款高性能精密匀胶机,采用了先进的设计理念,配合精密的运动控制系统,可以实现高精度、高均匀度的匀胶操作。可以存贮6组程序, 每组程序可达9步。所有运行参数如转速、加速度、转动时间等 都可在设备上方便设置。 产品名称 VTC-100PAX真空旋转涂膜机 产品型号 VTC-100PAX 主要参数 1、电机功率:100w 2、电源输入:220V 50Hz 3、每组程序段数:9段 4、每段时间范围:0-999S 5、速度范围:
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200PV
- 产地:沈阳
VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空,使样品在完全真空的状态下进行涂膜,适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用,对腔体抽真空时采用样品卡盘固定样品。VTC-200PV真空旋转涂膜机不对腔体抽真空工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在样品吸盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会
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真空旋转涂膜机,匀胶机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200P
- 产地:沈阳
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空,工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。腔室的上盖可以对样品进行加热(可选功能),有利于粘稠度大的薄膜材料的涂覆过程的进行。VTC-200P真空旋转涂膜机具有操作简单、
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200
- 产地:沈阳
VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。VTC-200真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备利用两段程序控制速度。首先开动涂膜机将设备转数设置在一定的转数范围内,在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶,注胶结束后涂膜机会提升转数至第二段的极限转数进行匀胶,在匀胶之前要对匀胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自动停止运转,涂膜的整个过程结束VTC-200真空旋转涂膜机利用高速旋转
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100B
- 产地:沈阳
VTC-100B真空旋转涂膜机是在VTC-100真空旋转涂膜机基础上进行升级的一款匀胶机,具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的涂覆过程。设备标配3个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。VTC-100B真空旋转涂膜机工作时利用真空吸附的方式将样品固定在吸盘上,该设备利用两段程序控制旋转速度,每段最长运行时间600s,运行过程中具有功能。上盖采用折页开合的方式,并配有安全锁扣,同时具有开盖保护功能,更好的保证了操作者的安全。VTC
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加热型真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PA-II
- 产地:沈阳
VTC-100PA-II加热型真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。VTC-100PA-II加热型真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。VTC-100PA-II加热型真空旋转涂膜机具
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PA-I
- 产地:沈阳
VTC-100PA-I真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。VTC-100PA-I真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。VTC-100PA-I真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100
- 产地:沈阳
VTC-100真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。设备标配3个不同大小的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。VTC-100真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备利用两段程序控制速度。首先开动涂膜机将设备转数设置在一定的转数范围内,在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶,注胶结束后涂膜机会提升转数至第二段的极限转数进行匀胶,在匀胶之前要对匀胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自
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旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-50A
- 产地:沈阳
VTC-50A旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式,调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制,使得转数在高达1000-8000RPM范围内都非常稳定。涂膜机在工作时设有两个阶段,分别为低转速时间T1阶段与高转速时间T2阶段,在低转速阶段使薄膜液体逐渐分散开,完成注胶的过程,在高转速阶段使薄膜液体在基片表面均匀分散开,形成厚度均匀的薄膜,完成匀胶的过程,在匀胶之前要对匀胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自动停止运转,涂膜的整个过程结束。VTC-50A旋转涂膜机主要适用于液
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真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PAH
- 产地:沈阳
VTC-100PAH真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版及表面涂覆等工艺,可用于强酸、强碱涂覆溶液。样件固定采用真空吸附方式。使样件取放自如,操作简单。电机启动快速度稳定,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。VTC-100PAH真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。1、真空吸附方式固定样件,操作简便。 2、真空度可以达到-0.08MPa。 3、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。 4、可靠性高,适应性强,
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全自动多层钙钛矿旋转涂层机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100ML
- 产地:沈阳
VTC-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜,半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成;可同时交替涂覆两种薄膜,两种液体各交替最多500次,实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸、碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配不同尺寸的真空吸盘,可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘,利用真空吸附的方式固定基片。该机主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。 1、真空吸附方式固定样件,操作简便。 2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,
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SPC-32电动平面网印机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: 2021-09-01
- 产地:沈阳
SPC-32电动平面网印机是燃料电池、太阳能电池涂覆专用设备。采用直线导轨,配合变频调整转动,确保印刷时的稳定性和精密度;刮刀压力和印刷速度可调,确保印刷的品质。1、设有PCB板与丝网间对准微调装置。 2、无论单双面都可分别左右调整,适用于不同尺寸范围的网版印刷。 3、自动实现印刷流程,质量更稳定,效率更高。 4、悬浮式刮刀系统使印刷更均匀。 产品名称 SPC-32电动平面网印机 产品型号 SPC-32 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃
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自动烘干涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-L1100HT
- 产地:沈阳
MSK-AFA-L1100HT自动烘干涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。MSK-AFA-L1100HT自动烘干涂布机采用真空吸附方法来对基片进行固定,使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生,从而使得涂布更加均匀顺畅。膜的宽度保持不变,制膜厚度可根据刮刀上方的千分尺进行调节,刮刀与基片间的间隙小,则所制备薄膜厚度薄;刮刀与基片间的间隙大,则所制备的薄膜厚度厚。制膜长度可根据刮刀的行程来控制,刮刀的极限行程为1025㎜。MSK-AFA-L1100HT自动
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刮式实验涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-EC200
- 产地:沈阳
MSK-AFA-EC200刮式实验涂布机是科晶集团ZX研制的一款专门用于箔材表面涂敷的自动化设备,可以实现在基材表面涂上非常均匀的薄涂层,并经过烘干系统自动烘干。本机可连续不间断涂布,适用于电池的研发实验与样品制作等,且具有一定的通用性,同时广泛应用于胶片、造纸和复合材料等行业,并具有较高的生产效率。1、设有自动搅拌杆,使涂布时浆料更均匀。 2、自动走带,自动收卷,并配有极片定位块,保证了走带收卷的整齐一致性。 3、设有烘干系统,涂布自动烘干。 4、涂布张力可调,连续不间歇涂布,涂布精度高。
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