2026 实验室仪器选型指南:显微、原位、清洁度、原子制造一站配齐

近年来，实验室建设的重点正在从“补齐设备”转向“完善能力结构”。二维观察已难以满足复杂材料研究需求；单一表征手段越来越难解释多尺度问题；单纯检测能力，也无法支撑高水平的材料设计与工艺优化。对于高校科研和企业研发部门而言，仪器选型不仅影响实验效率，更直接影响研究深度与技术转化节奏。本文将围绕四大技术模块，梳理 2026 年值得关注的实验室能力方向与选型思路。

PART ONE  显微成像

显微成像技术已经不再只是展示材料表面形貌的工具，而是理解微观结构与功能关系的基础平台。

01  Phenom 飞纳台式扫描电镜

2025年，飞纳电镜产品全面升级迭代，持续为中国 2500+ 用户带来更智能、更高效、更可靠的显微分析体验！覆盖数百所高校、中科院等科研院所、政府机构，以及新能源、生命科学等多个工业领域。应用研究涵盖金属与合金、电池、地质与考古、高分子材料、静电纺丝、陶瓷与复合材料、生物医学、微生物等多个前沿与交叉学科。

飞纳电镜采用台式一体化设计，具备完全防震能力，对安装环境要求低。操作流程高度简化，适配不同经验层级的用户。同时，飞纳电镜支持拓展 EBL 功能，自主编程功能，原位拉伸/压缩功能，原位加热/冷冻功能，样品真空转移等，亦可进行定制化满足科研与工业应用的多样化需求。

值得一提的是，Phenom AI 智能扫描电镜，支持全流程自动成像和自由编程（PPI）功能（适配所有飞纳型号），为微观世界的探索带来了前所未有的自由度和无限可能。

02  Technoorg Linda 离子研磨仪

Technoorg Linda SEMPREP SMART 配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。用于扫描电子显微镜（SEM）和电子背散射衍射（EBSD）样品的最终加工和清洁。离子加工可以改进和清洁机械抛光的 SEM 样品，并为 EBSD 分析制备无损表面。

产品特点：

• 氩离子束无应力处理样品
• 定位精准：可实现 ±1 微米
• 离子枪能量最高：0-16kV
• 超大样品腔室：可容纳直径 50mm 样品
• 制冷设计：液氮 LN2 制冷
• 可选配真空转移功能

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03  Neoscan 高分辨显微CT

NEOSCAN 台式显微 CT 经过四十年技术沉淀，以精密机械结构与智能图像重建算法为核心，在台式机体积下实现高达 40nm 的像素分辨率，高性能三维无损成像的特性受到众多高校科研与企业用户青睐！它无需切割或制备即可直接观察材料和生物样品内部结构，一次扫描即可获得形貌、裂纹、孔隙、界面及定量信息。

产品特点

• 性能出众：台式纳米 CT，最小体素尺寸高达 40nm !
• 为大尺寸、高密度物体设计，轻松扫描 32*54 cm 超大样品！
• 台式设计，不挑安装环境，操作简单，便于设备安装使用
• 闭管透射式 X 射线管设计，无需抽真空，无需定期换灯丝，设备免维护
• 软件免费，整合了扫描、重构、计算、输出模型等多种功能
• 选配件丰富，可选配力学样品台、温控样品台、自动进样系统、XRF成分分析系统等

04  原子力显微镜系列

1  AFM-SEM 联用

2  ICSPI 原子力显微镜

ICSPI 在原子力显微镜系统设计、探针控制与纳米级表征技术方面拥有深厚的技术积累。其 AFM 产品以高稳定性、高重复性及灵活的模块化架构著称，广泛应用于半导体器件表征、薄膜与纳米材料研究、精密表面形貌分析等领域。

PART TWO  透射电镜原位分析

材料性能往往来源于动态过程。DENSsolutions 原位样品杆，使研究者可以在加热、电场或气氛环境下观察结构变化，配合 Technoorg Linda TEM 精修设备，可以提高样品质量与实验稳定性。原位技术的价值，在于让研究更贴近真实工作状态。

01  DENSsolutions TEM 原位样品杆

DENSsolutions 作为原位 TEM 领域的领先品牌，凭借高稳定性芯片与完整的加热、热电、气相、液相和冷冻解决方案，为原位实验提供高可重复性与定量控制，目前已应用于国内 100 余所高校和科研院所。

产品特点：

• 高精度动态环境控制，引入气体、液体、热、电、冷冻等环境刺激
• 模块化设计，配置灵活，便于清理、替换以及跨平台表征
• 芯片独特性，领先的 MEMS 设计是其核心技术
• 在动态实验条件下保持高分辨率成像并且允许实时观察和分析

02Technoorg Linda TEM 样品制备

Technoorg Linda 的离子减薄仪、离子精修仪配备了超高能离子枪和低能离子枪，通过控制离子束的能量和角度，可对样品进行快速研磨及表面精细加工和最终抛光。

PART Thre  清洁度

在锂电、汽车、钢铁与半导体等高端制造领域，微米级颗粒与非金属夹杂物已成为影响可靠性、良率与产品寿命的关键因素。清洁度不再只是检测项目，而是企业核心竞争力的重要组成部分。

锂电清洁度

锂电池中的铜、锌、铁等金属异物可能导致严重的安全事故，对金属异物的管控也已成为行业共识。飞纳电镜 ParticleX Battery 全自动锂电清洁度分析系统，基于扫描电镜 + 能谱法可自动识别、分析和统计铜、锌、铁等金属异物，进而帮助分析异物来源，改善生产条件，减少安全事故的发生。

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汽车清洁度

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PART Four  原子制造

近年来，材料性能的突破越来越依赖界面调控与纳米尺度结构设计。传统宏观工艺已难以满足对精度与一致性的要求，研究与研发的重心逐渐下沉至原子与纳米尺度。复纳原子制造产品线聚焦新型原子层沉积（ALD）与纳米沉积打印技术方案，赋能微纳产业前沿发展。

ALD 产品线

01  Forge Nano 粉末原子层沉积系统

表面包覆作为提升粉末物理化学性能的重要手段，长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同，PALD 是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术，并保持良好的共形性。Forge Nano 经过多年研发，已经开发出低成本的规模化粉末原子层沉积包覆技术，目前已广泛应用于锂电、催化、金属、制药等领域。

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纳米沉积打印产品线

01  VSParticle 干法纳米沉积打印系统

VSParticle 是一家领先的纳米材料制造创新企业，凭借火花烧蚀与干法沉积平台，实现了高质量、可定制化的纳米结构材料的规模化制备。其技术已广泛应用于能源存储、传感器、催化等领域。

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02  Tera Print 桌面式无掩模蘸笔光刻/打印系统

Tera Print 桌面光刻系统采用光束笔光刻技术（BPL），高度并行、无需光刻掩模，它克服了衍射极限，能够在平方厘米区域内快速创建任意图案，特征分辨率低至 250nm。作为先进的桌面纳米光刻打印机，比以往更快更经济地原型制造和生产纳米结构表面与器件。结合了 DMD 无掩模光刻/聚束笔光刻/打印的新一代桌面式微纳制造系统，可将线宽控制低至 250nm。

产品特点

• 精密多波长光学器件：高功率均匀照明，紫外至可见光自由定制
• 亚衍射分辨率 < 250 纳米，微米级图案 >1.25 微米轻松实现
• 智能数字光掩模：任意图案化，纳米至厘米级设计即改即用
• 高效自动对准：快速重复定位，实现均匀图案表面
• 轻松控制：直观操作，几小时即可掌握全程纳米加工