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瑞士nanolive FLUXiM for OLED and OPV PSC应用领域

来源:深圳市科时达电子科技有限公司 更新时间:2025-12-09 19:15:23 阅读量:70
导读:该系统以非接触、非破坏性检测为核心,结合高分辨率成像、光谱分析与厚度/组分估算能力,帮助科研与工业现场快速评估薄膜光学性能、均匀性与稳定性。在实验室日常、工艺制程质控以及材料筛选场景下,FLUXiM 以稳定的数据可重复性获得广泛应用。

瑞士NanOlive 的 FLUXiM 系列是面向 OLED、OPV(有机光伏)和 PSC(钙钛矿太阳能电池)等薄膜光电子材料的高端光学成像与数据分析平台。该系统以非接触、非破坏性检测为核心,结合高分辨率成像、光谱分析与厚度/组分估算能力,帮助科研与工业现场快速评估薄膜光学性能、均匀性与稳定性。在实验室日常、工艺制程质控以及材料筛选场景下,FLUXiM 以稳定的数据可重复性获得广泛应用。


型号与核心参数


  • FLUXiM-BASE
  • 视场(FOV):2.0 x 1.5 mm
  • 像元尺寸:1.2 μm
  • 光谱覆盖:420–800 nm
  • 光谱分辨率:约4 nm
  • 动态范围:16-bit
  • 成像模式:白光/反射、荧光初级映射
  • 扫描方式:快速点扫描+全场拼接
  • 必备软件模块:光谱成分估算、厚度初步推断、基本表面形貌
  • FLUXiM-PRO
  • 视场(FOV):6.0 x 4.5 mm
  • 像元尺寸:0.8 μm
  • 光谱覆盖:360–1000 nm
  • 光谱分辨率:约1.5–2 nm
  • 动态范围:16–18 bit
  • 成像模式:反射、荧光、拉曼预选
  • 扫描方式:电动 XY 舞台+ 高速线扫描
  • 额外接口:外接光谱仪扩展、自动对焦模块
  • 软件功能:高光谱成分分离、厚度与折射率反演、相分布热力学分析
  • FLUXiM-ULTRA
  • 视场(FOV):30 x 22 mm
  • 像元尺寸:0.4 μm
  • 光谱覆盖:300–1300 nm
  • 光谱分辨率:1.0–1.5 nm
  • 动态范围:≥16 bit
  • 成像模式:多模态(反射、荧光、相干/非线性信号),可选单模态与混合模式
  • 扫描方式:全集成的高速谱扫描与拼接
  • 数据处理:并行处理、离线分析、批量处理流水线
  • 软件:高级数据挖掘、三维厚度/折射率映射、组织架构级别的统计与质控报告

系统配置与兼容性要点


  • 光源与检测:基于可编程 LED 背光与高灵敏探测阵列,支持自定义光谱预设,以贴合 OLED 的发射峰、OPV 的吸收带和 PSC 的相分布特征。
  • 样品台与环境:可选温控、湿控与惰性气氛腔体,适配薄膜基底内嵌或叠层结构测量;兼容常用 ITO/ITO-free 玻璃基底与柔性基材。
  • 数据接口:导出 TIFF、HDF5、CSV、MAT 等格式,含原始数据与处理参数,便于后续回溯与多团队协作。
  • 软件生态:自带光谱解卷积、厚度反演、折射率/吸收系数拟合、相分布可视化等模块;可与外部仿真工具对接,支持自定义脚本和批处理流程。
  • 校准与稳定性:定期自校正、光谱通道对齐与光路稳定性监控,提供可追溯的采购与维护日志。

应用场景与数据要点


  • OLED
  • 目标:评估发射均匀性、色坐标稳定性与薄膜厚度分布对发光效率的影响。
  • 数据要点:发光强度分布图、色温/色坐标映射、薄膜厚度分布、出射光谱一致性指标。
  • OPV
  • 目标:分析活性层厚度、相分布对光电性能的制约,辅助界面工程与薄膜堆叠优化。
  • 数据要点:吸收谱带覆盖、厚度场分布、局部折射率映射、分区区块统计、界面处的光学场增强区识别。
  • PSC
  • 目标:揭示晶粒结构、相分布与水/氧敏感区域,追踪成膜后相变与退火过程对性能的影响。
  • 数据要点:晶粒边界出光/荧光特征、相位分布热力学分析、阶段映射与时间序列演化、区域统计与失效率分析。

场景化 FAQ


  • FLUXiM 能否在制程良品线中进行在线检测?可以。通过整合自动对焦、全场或分区扫描,提供实时均匀性与厚度分布报告,并可设质控阈值实现报警。
  • 如何与现有 OPV/PSC 制程设备对接?提供标准化通信接口与脚本化导入流程,支持离线数据与产线数据的联合分析,便于追溯与改进。
  • 软件生成的输出数据有哪些格式?常见格式包括 TIFF(影像)、HDF5(多通道数据)、CSV/MAT(表格与参数),并附带处理日志与校准信息。
  • 除了光学信息,还能获取材料的电学或器件级别信息吗?FLUXiM 可结合外部电性测试数据,进行相关性分析与多模态可视化,帮助解释光学-电学耦合效应。
  • 如何实现跨批次的可比性?系统自带批处理模板和统一的校准流程,配合版本化的软件参数,确保不同批次之间的可比性。
  • 设备维护与校准频次建议?建议在新材料体系建立初期进行每日/每周的通道对齐与光路稳定性检查,稳定后每月进行全面校准与性能复核。

总结性描述 FLUXiM 的设计目标是在 OLED、OPV 和 PSC 等薄膜材料领域提供可重复、可追溯且具备跨学科协同能力的成像分析平台。通过多模态成像、精细的光谱分辨以及厚度与相分布的反演能力,帮助研究人员快速识别制程瓶颈、评估材料改性效果,并在放大到工业级质控时提供稳定的数据支撑。若需要针对具体材料体系的应用方案与报价,我们可以依据目标器件结构、基底类型与产线节拍,制定定制化的测试方案与培训计划。


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