悉识科技 椭偏仪膜厚测量系统 ES-1 参数

悉识科技ES-1椭偏仪膜厚测量系统是面向实验室科研与工业质检场景的高精度光谱椭偏仪，核心解决亚纳米至微米级薄膜的厚度、折射率（n）、消光系数（k）等光学参数的非接触式测量问题，经多行业样品验证，适配有机/无机、透明/半透明等多种薄膜材料。

一、核心技术特点

• 宽光谱覆盖：300-1700nm连续光谱范围，覆盖紫外-可见-近红外区域，可表征绝大多数薄膜材料的光学特性；
• 多模式测量：支持变角度椭偏（VASE）与变波长椭偏（VWE），单次测量可同时获取膜厚及n/k光学常数；
• 自动化集成：配备电动样品台（行程150×150mm，定位精度±5μm），支持批量样品自动测量与数据导出；
• 无损检测：非接触式光学测量，无需破坏样品表面，适合珍贵样品（如量子点薄膜）或易损柔性膜。

二、关键性能参数（实测验证）

• 膜厚测量范围：0.1nm（亚纳米）~100μm（微米级）；
• 膜厚重复精度：±0.05nm（基于10nm SiO₂薄膜的10次重复测量结果）；
• 折射率（n）精度：±0.001（550nm波长下，SiO₂薄膜实测）；
• 消光系数（k）精度：±0.0005（550nm波长下，Al薄膜实测）；
• 光谱分辨率：1nm（可选0.5nm高分辨模式，适配窄带吸收材料）；
• 入射角可调范围：45°~90°，步进精度0.1°；
• 单样品测量时间：≤30s（含数据拟合与结果输出）；
• 兼容样品尺寸：最大150×150mm（适配6英寸晶圆及以下，支持异形样品固定）。

三、典型应用场景

1. 半导体领域：Si/SiO₂、光刻胶、Cu/Al金属互联层的膜厚与n/k表征；
2. 显示面板：ITO透明导电膜、OLED有机发光层、LCD取向膜的厚度检测；
3. 光伏产业：PERC电池Al₂O₃钝化层、CIGS薄膜、钙钛矿薄膜的一致性分析；
4. 材料科学：ALD/CVD薄膜的生长速率与厚度实时监测；
5. 工业质检：光学增透膜、柔性PI/PET膜的批量膜厚检测。

四、应用优势总结

• 宽光谱适配：300-1700nm覆盖多材料，无需更换光源即可满足大部分测量需求；
• 科研工业兼顾：高重复精度（±0.05nm）支撑实验室基础研究，自动化批量检测适配工业产线；
• 快速建模：内置Cauchy、Drude、Lorentz等常见材料模型，无需复杂参数设置即可输出准确结果；
• 非接触无损：避免样品污染/损伤，适合珍贵样品或易损薄膜的表征。

ES-1椭偏仪通过平衡高精度与实用性，成为半导体、显示、光伏等行业实验室与质检部门的主流选择，其参数设计贴合行业实际需求，可有效提升薄膜表征效率与数据可靠性。