悉识科技 椭偏仪膜厚测量系统 ES-1 特点

薄膜厚度与光学常数是半导体、光电、新材料等领域的核心表征参数，椭偏仪作为非接触式高精度测量工具，是实验室与工业检测的关键设备。悉识科技推出的椭偏仪膜厚测量系统 ES-1，针对亚纳米到微米级薄膜的精准表征需求，整合宽光谱、高精度与快速测量技术，适配从科研实验室到工业产线的多元场景。

1. 核心技术特点（带量化指标）

• 宽光谱连续覆盖：支持300nm-1700nm全光谱范围，光谱分辨率≤1nm，可同时实现紫外-可见-近红外区域的薄膜测量，适配SiO₂、Si₃N₄、ITO、有机高分子等120+常用材料；
• 亚纳米级测量精度：膜厚重复精度≤0.01nm（1σ，针对≤10nm薄膜），折射率测量精度≤0.001，角度重复性≤0.005°，满足半导体14nm以下工艺节点的薄膜监控需求；
• 快速批量检测：单样品点测量时间≤0.5s，100点批量测量耗时≤10s，可选自动样品台（XYZ行程100×100×50mm），支持自动对焦，提升工业产线检测效率；
• 多模式兼容设计：支持反射式、透射式椭偏测量，适配透明/半透明/不透明薄膜，可表征最多8层多层膜结构，内置材料数据库减少建模时间；
• 非接触无损测量：基于偏振光反射/透射原理，无需接触样品表面，避免柔性膜、生物薄膜等脆弱样品损伤，适合高价值材料表征；
• 易用性优化：图形化操作界面（GUI）支持一键测量、数据自动拟合，结果可导出为CSV/Excel格式，兼容LIMS系统，降低操作门槛。

2. 关键性能参数表

3. 典型应用场景

• 半导体制造：硅晶圆氧化层（SiO₂）、氮化硅（Si₃N₄）、ITO透明导电膜的厚度/折射率实时监控，适配12英寸晶圆检测；
• 光电材料研发：OLED有机发光层、量子点膜、钙钛矿太阳能电池薄膜的多层膜结构表征，支持透射式测量；
• 实验室科研：二维材料（石墨烯、MoS₂）、纳米复合材料薄膜的厚度与光学常数分析；
• 工业质量检测：柔性电子PI/PET薄膜、光学AR/反射镀膜的批量一致性检测；
• 生物医学：脂质双层膜、细胞外基质等生物薄膜的非接触式厚度表征。

悉识科技ES-1椭偏仪通过宽光谱覆盖、高精度测量与快速检测的整合，解决了实验室科研与工业产线对薄膜表征的差异化需求，其非接触无损特性与易用性设计，进一步拓展了应用边界，是薄膜材料研发与质量控制的高效工具。