KRI 霍尔离子源典型应用 PC 预清洁后,IBAD 辅助镀
霍尔离子源应用于光学镀膜机加装, 实现预清洁 PC, 辅助镀膜 IBAD
光学镀膜 optics coating, 在现代生产被广泛应用, 例如玻璃镀膜, 镜片镀膜, 显微镜镜片镀膜, 装饰灯罩镀膜都是生产工艺之一. 蒸发镀膜作为一种常见的制程, 比较容易出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落的现象, 使用美国 KRI考夫曼离子源可以解决此类问题, 因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中
离子源辅助镀膜客户案例一: 厦门某光学镀膜企业, 该企业使用日本 Shincron 真空镀膜机, 镀膜腔体约 2 m3 , 镀膜机加装霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用.
离子源辅助镀膜具体操作, 霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD : 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象, 预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面, 使得制程物能吸附在表面上. 加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用, 在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高。
工作示意图如下, KRI离子源覆盖面
使用专业测膜记号笔, 可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同
相关产品
全部评论(0条)
推荐阅读
①本文由仪器网入驻的作者或注册的会员撰写并发布，观点仅代表作者本人，不代表仪器网立场。若内容侵犯到您的合法权益，请及时告诉,我们立即通知作者，并马上删除。
②凡本网注明"来源：仪器网"的所有作品，版权均属于仪器网，转载时须经本网同意，并请注明仪器网(www.yiqi.com)。
③本网转载并注明来源的作品，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时，必须保留本网注明的作品来源，并自负版权等法律责任。
④若本站内容侵犯到您的合法权益，请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱：hezou_yiqi
英贝儿（天津）测控设备有限责任公司
沪公网安备 31011502008050号
参与评论
登录后参与评论