苏州悉识NS-OEM系列膜厚测量套件是针对OEM集成场景设计的模块化膜厚检测方案,聚焦实验室研发与工业产线的高精度膜厚控制需求,通过光谱反射/干涉技术实现非接触式测量,适配多膜层/基材类型,兼具集成灵活性与长期稳定性。
多膜系/基材广谱兼容
支持单一/多层膜测量,涵盖金属(Al、Cu、Ti等)、氧化物(SiO₂、Al₂O₃)、聚合物(PET、PI)及透明/半透明膜层;适配硅、玻璃、不锈钢、塑料等12类常见基材,无需更换探头即可覆盖90%以上实验室/工业常用膜系,解决“一机多测”的适配痛点。
亚微米级非接触精度
采用光谱干涉/反射技术,避免接触式测量的划痕风险,针对10-100μm金属膜测量精度达±0.01μm,聚合物膜±0.05μm;连续10次测量重复精度≤0.005μm(1σ),满足半导体光刻胶、光学镀膜等亚微米级膜厚控制需求。
快速OEM集成适配
模块化设计体积仅80×60×30mm(探头+控制模块),支持RS485、USB、TTL等标准接口,可选4-20mA模拟输出;提供C++/Python SDK开发包,集成至真空镀膜机、光刻机等设备周期≤72小时,适配自动化产线的实时检测需求。
低漂移工业级稳定性
内置±0.1℃精度温度补偿模块,长期漂移≤0.02μm/年;24小时连续运行下数据变异系数(CV)≤0.15%,在15-40℃、20%-80%RH环境下可稳定工作,无需频繁校准(校准周期≥6个月)。
| 参数项 | 规格说明 |
|---|---|
| 测量原理 | 光谱反射式(可选涡流/电容式) |
| 测量范围 | 0.1μm ~ 1000μm(依膜层调整) |
| 测量精度 | ±0.01μm(金属膜);±0.05μm(聚合物) |
| 重复精度 | ≤0.005μm(1σ,连续10次) |
| 最小光斑尺寸 | Φ10μm(可选Φ20μm/Φ50μm) |
| 单次测量时间 | ≤10ms |
| 环境适应性 | 温度15-40℃,湿度20%-80%RH(无凝露) |
| 输出接口 | RS485、USB 2.0、TTL(4-20mA可选) |
| 电源规格 | DC 12V ±10%,功耗≤5W |
| 校准周期 | ≥6个月 |
NS-OEM系列针对OEM集成场景优化,平衡了“高精度测量”与“快速集成”的矛盾,覆盖从实验室研发到工业产线的全场景膜厚需求,是半导体、精密制造等领域提升良率、降低研发成本的实用工具。
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