日本Elionix 超高精密电子束光刻系统 ELS-F150
ELS-F150 Ultra High Precision Electron Beam Lithography System
World's highest acceleration voltage electron beam
lithography system
世界上加速电压最 高的电子束光刻系统
The ELS-F150 is the world's first 150 kV electron beam lithography system. Expanding upon the ELSF125 base system, the ELS-F150 enables single digit nanoscale device fabrication for advanced research.
ELS-F150是世界上第 一个150千伏电子束光刻系统。在ELS-F125基础上展开系统,ELS-F150支持单位纳米级用于高级研究的设备制造。
Main Applications:
主要应用领域
- Quantum dots for quantum computing
-量子点用于量子计算
- Resolution and edge roughness testing for EUV resist
Evaluation
EUV抗蚀剂的分辨率和边缘粗糙度测试评估
- < 10 nm master fabrication and material evaluation for
nanoimprint lithography
< 10nm母版制作和材料评估纳米压印光刻
- T-gate pattern on thick resist for HEMT devices
- HEMT器件厚抗蚀胶上的T-型栅极图案
- Nano gap patterning for bionano sensors
- 用于生物传感器的纳米间隙模式
- Fresnel Zone Plate (FZP) for X-ray gratings
- x射线光栅的菲涅耳带板(FZP)
Key Product Features
关键产品特性
- 4 nm linewidth guaranteed at 150 kV
- 4纳米线宽保证在150千伏
- 1.5 nm beam diameter and minimum proximity effect at 150 kV
- -1.5纳米束直径和最小接近效应在150千伏
- Wider process margin than 125 kV makes it easier to fabricate advanced nanodevices
- -比125千伏更宽的工艺裕度使制造先进的纳米器件更容易
- Single cassette auto-loader as default, supports up to 6 slot multi-cassette auto-loader (option)
-默认单盒自动加载,最多支持6槽多盒自动加载(可选)
High Throughput and Uniformity
高通量和均匀性
- Superior fine line writing:
-卓 越的细线条书写:
3 nm line width at 50 nm pitch using commercially available resist
3nm线宽,50 nm间距,使用商用抗蚀剂
User-friendly Interface
友好的用户界面
[CAD and SEM interfaces on Windows]
CAD和SEM界面在Windows上
- Easy pattern design function
- -简单的图案设计功能
- Easy control of beam condition
- -易于控制电子束的条件
Specification规格
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (德国)德国UniTemp
- (美国)美国Nanovea
- (美国)美国德龙
- (日本)日本尼康
- (美国)湖岸LakeShore
- (美国)美国SONIX
- (德国)德国YXLON
- (美国)美国OAI
- (美国)美国阿兹特克
- (美国)美国Royce
- (美国)美国OGP
- (美国)美国相干
- (深圳)杰普特
- (美国)美国Filmetrics
- (美国)美国Thorlabs
- (美国)美国nanoArch
- (英国)英国Quorum
- (美国)美国Anasazi
- (美国)美国Montana Instruments
- (芬兰)芬兰Picosun
- (土耳其)土耳其ADLEMA
- (苏州)苏州纽迈
- (法国)法国Alyxan
- (英国)英国NanoBeam
- (德国)德国YXLON
- (德国)德国neaspec
- (瑞典)瑞典NanOsc
- (德国)德国Sentech
- (德国)德国Attocube Systems
- (东莞)庆达VIPUV
- (英国)英国HHV
- (德国)德国耐驰
- (英国)NanoMagnetics
- (法国)法国Plassys
- (美国)美国Associated Research
- (日本)日立
- (英国)牛津仪器
- (德国)德国克吕士
- (美国)美国SCIEX
- (美国)美国Denton Vacuum
- (日本)日本SEN
- (美国)美国海马
- (德国)德国iplas
- (美国)美国Jelight
- (美国)美国Sinton Instruments
- (美国)美国Nano-Master
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Neocera
- (美国)美国Trion
- (美国)美国UVOCS
- (成都)中科院
- (台北)台湾正恩科技
- (比利时)比利时宝镭泽
- (德国)德国Allresist
- (瑞士)瑞士Sawatec
- (德国)德国Diener
- (美国)美国AZ technology
- (美国)美国劳瑞尔
- (美国)美国Uvitron
- (英国)英国EMS
- (美国)美国MicroChem
- (德国)德国Optosol
- (深圳)深圳一正
- (德国)德国FS Bondtec
- (美国)美国Newport
- (英国)英国MML
- (美国)美国Nisene
- (美国)美国VTI
- (美国)美国FEI
- (美国)美国RKD
- (德国)德国PVA TePla
- (日本)日本理学
- (英国)英国AML
- (美国)美国PI
- (日本)富士
- (日本)日本Advance Riko
- (美国)美国Sonoplot
- (香港)托普斯
- (美国)美国Quantum Design
- (美国)美国泰德派勒
- (丹麦)丹麦NIL TECHNOLOGY
- (日本)日本RIBM
- (美国)美国SCS
- (瑞典)瑞典Obducat
- (德国)德国布鲁克
- (韩国)韩国ATI
- (德国)德国海德堡
- (日本)日本伊领科思
- (美国)赛默飞世尔
- (西班牙)西班牙Mecwins
- (德国)德国纳糯
- (德国)徕卡生物系统
- (美国)美国泰克
- (美国)美国Harrick
- (德国)德国SUSS MicroTec
- (日本)日本基恩士
- (瑞士)瑞士nanosurf
- (德国)德国ParcanNano
- (德国)德国蔡司
- (奥地利)奥地利EVG
- (美国)美国MMR
- (英国)英国牛津
- (德国)德国Raith
- (日本)日本 Ulvac
- (韩国)韩国ECOPIA
- (德国)凯斯安KSI
- (德国)德国Eulitha
- (苏州)苏州纳维科技
- (新竹)台湾智果整合
- (德国)德国Nanoscribe
- (俄罗斯)俄罗斯Optosystem
- (法国)法国Annealsys
- (德国)德国Klocke Nanotechnik
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
- (日本)日本Tohuko
- (瑞典)瑞典Mycronic
- (日本)日本理音
- (美国)美国KLA
- (美国)美国D&S
- (瑞士)瑞士Swisslitho AG
- (德国)德国MBE-Komponenten
- (美国)美国RTI
- (英国)英国牛津真空
- (日本)日本电子
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