详细介绍
美Nano-master等离子清洗/灰化系统
NPC-4000 独立式等离子清洗去胶系统
NPC-3500 紧凑型独立式等离子清洗去胶系统
NPC-3000 台式等离子清洗去胶系统
NPC-1000 台式简化型等离子清洗去胶系统
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独 一 无 二 的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。
特点:
** 不锈钢、铝以及钟罩式腔体
** 超净设计,兼容百级超净间使用
** 淋浴头RF离子源
** 旋转样品台
** 260L/Sec抽速的涡轮分子泵
** 极限真空5x10-7Torr
** 偏压样品台可加热到300°C(PID精确控温)或冷却样品台
** 自动或手动RF调谐器
** 最多4路带电抛光不锈钢气体管路的MFC
** 全自动计算机控制,菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 计算机控制的气动阀
** 基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动
** LabView友好用户界面
** EMO及安全联锁
选配:
** 前级泵升级为干泵
** 自动上下片
** 增加MFC升级为更高型号
** 升级为ICP源或微波源
应用:
** 失效分析
** 无残留去除有机和无机材料
** 光刻胶剥离或灰化
** 去残渣及深腐蚀
** 清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜引线框架
** 提高粘附性,消除键合问题
** 塑料品表面改性:O2处理提高涂覆性能
** 生成亲水或疏水表面
产品优势
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独 一 无 二 的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
- (日本)日本Tohuko
- (瑞典)瑞典Mycronic
- (日本)日本理音
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- (美国)美国D&S
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- (美国)美国RTI
- (英国)英国牛津真空
- (日本)日本电子
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- (美国)美国德龙
- (日本)日本尼康
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- (美国)美国SONIX
- (德国)德国YXLON
- (美国)美国OAI
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- (美国)美国Royce
- (美国)美国OGP
- (美国)美国相干
- (深圳)杰普特
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