美NANO-MASTER RTP快速退火炉
NRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统
NRT-4000 独立式全自动RTP系统
NRT-4000 独立式大批量RTP系统
NANO-MASTER的NRT-4000型独立式RTP快速褪火炉,可支持硅片、GaN、GaAs等晶圆的快速煺火,具有精确的温度/时间控制能力。该RTP系统可支持单片自动Load Lock,或者带25片Cassette的单片工艺,可兼容处理4”和6”晶圆片。也可以有一次处理6-7片6”晶圆的批处理版本。占地面积仅为26”x44”,不锈钢立柜。
用户可选择温度的升降时间,温度和脉冲数,并且这些工艺参数实时显示在触摸监控屏幕中。全自动工艺控制和完整的安全联锁功能。系统支持不限数量的工艺菜单,每套工艺菜单可根据客户需要支持1到100个工艺工序(步骤)。
该RTP系统可选择不同的最 高温度(最 高可可加热至1100℃或者1400℃),温度脉冲可高达200C/s,SiC涂覆的石墨烯样品台,带石英支架,三顶针升降样品台(Auto L/UL)。提供高均匀性的温度控制,整个晶圆全局的温度均匀性优于+/-1%,控温精度优于+/-2℃。
特点:
** 无气相颗粒,兼容百级超净间
** 12”x12”x8”不锈钢腔,气动升降顶盖
** 最 高温度可达1100℃
** 最 高脉冲温度可达200℃/Sec
** 碳化硅涂覆的石墨烯基座
** 36KW的SCR控制的IGBT开关固态电源
** ISP-500干泵,极限真空可达50mTorr
** 8个红外灯,金反射镜
** 不均匀性±1%,温控精度±2℃
** 200sccm质量流量计
** 25片Cassette自动Load Lock
** LabView软件,触摸屏监控屏幕
** 四级密码授权访问保护
** EMO和完全的安全联锁功能
** 占地面积仅26”×44”,不锈钢柜体
选配:
** 大腔体配置,支持更大尺寸或批处理
** 单晶圆工艺的Auto Load Lock
** 单晶圆工艺25片Cassette的自动上下片
** 最 高加热温度升级到1400℃
** 双光学高温计,控制400-1400℃,控制150-1100℃
** 涡轮分子泵,5×10-7Torr的极限真空。
** 额外MFC用于如O2、H2等气体,实现不同工艺应用
应用:
** 扩散
** 接触式退火
** 复合半导体退火
** 氧化、碳化、晶化,以及致密化
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