美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000
NANO-MASTER大基片清洗机(LSC)是一款独立式清洗机,使用计算机控制,最 大可支持外径21”的基片。
通过前方面板上的触摸屏和LabView用户界面,与SWC系统相比可以提供更强大的控制,并允许用户控制访问等级,比如操作者、工艺工程师和维护工程师。跟SWC一样,LSC集成了同样的专 利技术的兆声技术和化学试剂分布。
LabView控制和更大工艺腔体的组合支持额外的选配项,诸如臭氧化去离子水、高压去离子水、带保护膜的分划板清洗、以及白骨化清洗。 单晶圆和Cassette-to-Cassette自动上下片可选。其中可以通过定制托盘一次放入多片小片实现批处理。
特点:
** 最 大可支持21”外径,15”x15”方片和450mm的晶圆
** 无损兆声清洗
** 不同转速的PVA刷子
** 带回吸阀的化学试剂分布
** 双排放口用于酸和试剂的分开排放
** 全自动计算机控制,菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 手动上下片
** 安全联锁和报警
** 32”x28”的占地面积
选配:
** 带保护膜的分划板清洗
** 双面刷子和兆声清洗
** 化学试剂传输模块
** 化学试剂瓶的泄漏检测传感器
** 白骨化清洗
** 臭氧化去离子水(20ppm O3)
** 高压去离子水
** 加热的去离子水
** 氮离子发生器
** 带去离子水电阻率监控的CO2注入
** FM4910防火灾材料
** 机械手上下片,带SMIF传送盒
应用:
** 硅晶圆及蓝宝石晶圆清洗
** 晶圆框架上的切割芯片清洗
** 显示面板清洗
** ITO涂覆的显示屏
** 带图案或不带图案的掩模板清洗
** 掩模板光板清洗
** 接触掩模版清洗
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