详细介绍
适合用科研领域的中小型实验室与大学研究所
支持套刻直写功能
MLA100聚焦于合理价格下依然维持高性能，是许多研发应用的理想光刻解决方案。该光学系统设计为以50mm²/min的速度在光刻胶中直写出1μm结构，而无需使用掩膜板。从光刻工艺中免除掩膜板步骤制程以增加灵活性并显着缩短图形制作周期。MLA100由曝光指引系统(GUI)控制，该系统可指导操作员完成整个过程：加载基材信息，选择设计并开始曝光。面积为60x75cm²的MLA100设计用于安装在中小型的研发实验室中，只需要电源和压缩空气即可运行。
MLA100的应用包括Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene以及任何其他需要微结构的应用。
功能:
刻写速度: 50 mm²/分钟的速度
基板尺寸:6 x 6”
曝露面积:100 x 100毫米
结构精度: 1µm
大功率LED光源
基于SLM光引擎
多种数据输入格式
基本灰度曝光模式
对准摄像系统
实时自动对焦
User-optimized接触向导
产品优势
基本灰度曝光模式
对准摄像系统
实时自动对焦
User-optimized接触向导
对准摄像系统
实时自动对焦
User-optimized接触向导
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- 离子刻蚀与沉积系统
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- 半导体微纳检测仪
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