。极大地提高生产力 ,
。低成本 —几个月就能收回成本
。A精确 — 测量精度高于 ±1%
。快速 — 几秒钟完成测量
。非侵入式 — 完全在沉积室以外进行测试
集成光谱仪/光源装置
光纤电缆
4", 6" and 200mm 参考晶圆
TS-SiO2-4-7200 厚度标准
BK7 参考材料
整平滤波器 (用于高反射基板)
真空泵
备用灯
集成平台/光谱仪/光源装置(不含平台)
4", 6" and 200mm 参考晶圆
TS-SiO2-4-7200 厚度标准
真空泵
备用灯
集成光谱仪/光源装置
光斑尺寸10微米的单点测量平台
FILMeasure 8反射率测量软件
Si 参考材料
FILMeasure 独立软件 (用于远程数据分析)
Filmetrics 薄膜厚度测量系统F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列
F20 系列
世界上zui畅销的台式薄膜厚度测量系统
只需按下一个按钮,您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows™系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上,我们每天从我们的客户学习更多的应用.
选择您的F20主要取决于您需要测量的薄膜的厚度(确定所需的波长范围)
F20系列型号规格
型号 | 厚度范围* | 波长范围 |
F20 | 15nm - 70µm | 380-1050nm |
F20-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
F20-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
F20-UV | 1nm - 40µm | 190-1100nm |
F20-UVX | 1nm - 250µm | 190-1700nm |
F20-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
F3-sX 系列 | 10µm - 3mm | 960-1580nm |
F30 系列
监控薄膜沉积,有力的工具
F30光谱反射率系统能实时测量学沉积率,沉积层厚度,光学常数(N或K值)和半导体以有电介层的均匀性。
样品层
分子束外延和金属有机化学气相沉积:可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。这实际上包括从氮化镓侣到镓铟磷砷的任何半导体材料。
F30系列型号规格
*取决于薄膜种类 | ||||||
型号 | 厚度范围* | 波长范围 | ||||
F30 | 15nm-70µm | 380-1050nm | ||||
F30-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm | ||||
F30-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm | ||||
F30-UV | 3nm-40µm | 190-1100nm | ||||
F30-UVX | 3nm - 250µm | 190-1700nm | ||||
F30-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
常见选购配件:镜头组:
各项优点:
F40 系列
将您的显微镜变成薄膜测量工具
F40 产品系列用于测量小到 1 微米的光斑。 对大多数显微镜而言,F40 能简单地固定在 c 型转接器上,这样的转接器是显微镜行业标准配件。
F40 配备的集成彩色摄像机,能够对测量点进行准确监控。 在 1 秒钟之内就能测定厚度和折射率。 像我们所有的台式仪器一样,F40 需要连接到您装有 Windows 计算机的 USB 端口上并在数分钟内完成设定。
F40系列型号规格
*取决于薄膜种类 | ||
型号 | 厚度范围* | 波长范围 |
F40 | 20nm-40µm | 400-850nm |
F40-EXR | 20nm-120µm | 400-1700nm |
F40-NIR | 40nm-120µm | 950-1700nm |
F40-UV | 4nm-40µm | 190-1100nm |
F40-UVX | 4nm-120µm | 190-1700nm |
F50 系列
自动化薄膜测绘
Filmetrics F50 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度。一个电动R-Theta 平台可接受标准和客制化夹盘,样品直径可达450毫米。(耐用的平台在我们的量产系统能够执行数百万次的量测!)
測绘圖案可以是极座標、矩形或线性的,您也可以创造自己的测绘方法,并且不受测量点数量的限制。內建数十种预定义的测绘圖案。
不同的 F50 仪器是根据波长范围来加以区分的。 标准的 F50是zui受欢迎的产品。 一般较短的波长 (例如, F50-UV) 可用于测量较薄的薄膜,而较长的波长则可以用来测量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。
F50系列型号规格
*取决于薄膜种类 | ||||||
型号 | 厚度范围* | 波长范围 | ||||
F50 | 20nm-70µm | 380-1050nm | ||||
F50-UV | 5nm-40µm | 190-1100nm | ||||
F50-NIR | 100nm-250µm | 950-1700nm | ||||
F50-EXR | 20nm-250µm | 380-1700nm | ||||
F50-UVX | 5nm-250µm | 190-1700nm |
F50-XT | 0.2µm-450µm | 1440-1690nm | |
F50-s980 | 4µm-1mm | 960-1000nm | |
F50-s1310 | 7µm-2mm | 1280-1340nm | |
F50-s1550 | 10µm-3mm | 1520-1580nm |
包含的内容:
F60:生产环境的自动化厚度映射
Filmetrics F60-t系列可以像我们的F50产品一样映射薄膜厚度和索引,但是它还包含许多专门用于生产环境的功能。其中包括自动缺口查找,自动机载基线测量,带运动互锁的封闭式测量平台,预装软件的工业计算机以及升级到完全自动化晶圆处理的选项。
不同的F60-t仪器主要根据厚度和波长范围进行区分。通常需要较短波长(例如F60-t-UV)来测量较薄的膜,而较长的波长允许测量更厚,更粗糙和更不透明的膜。
F60系列型号规格
*取决于薄膜种类 | ||||||
型号 | 厚度范围* | 波长范围 | ||||
F60-t | 20nm-70µm | 380-1050nm | ||||
F60-t-UV | 5nm-40µm | 190-1100nm | ||||
F60-t-NIR | 100nm-250µm | 950-1700nm | ||||
F60-t-EXR | 20nm-250µm | 380-1700nm | ||||
F60-t-UVX | 5nm-250µm | 190-1700nm |
F60-t-XT | 0.2µm-450µm | 1440-1690nm | |
F60-t-s980 | 4µm-1mm | 960-1000nm | |
F60-t-s1310 | 7µm-2mm | 1280-1340nm | |
F60-t-s1550 | 10µm-3mm | 1520-1580nm |
包含的内容:
常见选购配件:
F3-sX 系列
F3-sX 系列能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米,而这种较厚的薄膜与较薄的薄膜相比往往粗糙且均匀度较为不佳
波长选配
F3-sX系列使用近红外光来测量薄膜厚度,即使有许多肉眼看来不透光(例如半导体)。 F3-s980 是波长为980奈米的版本,是为了针对成本敏锐的应用而设计,F3-s1310是针对重掺杂硅片的zui佳化设计,F3-s1550则是为了最厚的薄膜设计。
附件
附件包含自动化测绘平台,一个影像镜头可看到量测点的位置以及可选配可见光波长的功能使厚度测量能力最薄至15奈米。
F3-sX 系列 型号规格
*取决于薄膜种类 | ||||||
型号 | 厚度范围* | 波长范围 | ||||
F3-s980 | 10µm - 1mm | 960-1000nm | ||||
F3-s1310 | 15µm - 2mm | 1280-1340nm | ||||
F3-s1550 | 25µm - 3mm | 1520-1580nm |
包含的内容:
F3-XXT 系列
F3-XXT专门设计用于测量非常厚的层,尤其是粗糙的表面,例如在IC故障分析的硅背面去除中经常遇到的表面。使用UPG-RT-to-Thickness软件模块,可以在几分之一秒内测量5μm至1000μm厚的硅。视频成像可以与SampleCam-XXT一起添加。
XY8自动阶段可以添加自动XY映射功能。自动对焦选项也可用。
为了测量更薄的层(小于0.1μm),可以添加可见波长光谱仪。
与我们所有的厚度测量仪器一样,F3连接到Windows™计算机的USB端口,并在几分钟内完成设置。
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
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- (美国)美国Associated Research
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- (美国)美国海马
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