DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
美国Quantum Design公司近期隆重推出zui新产品-完全无液氦综合物性测量系统PPMS®DynaCool™。它是继多功能振动样品磁强计VersaLab(3T,50K-400K)之后,Quantum Design公司推出的第二款完全无需液氦等任何制冷剂的测量系统。
PPMS DynaCool在功能上仍然是一台PPMS系统,具有以往PPMS系统的所有测量功能。然而由于其杜瓦内部的重新优化设计,使得PPMS DynaCool系统完全不需要液氦等任何制冷剂,系统使用一个二级脉冲管制冷机同时为超导磁体和样品测量提供超低振动的低温环境。并且系统主机就已经集成了产生<10-4Torr高真空的冷泵,从而使PPMS DynaCool能与所有相关选件升级兼容。
美国Quantum Design公司近期隆重推出zui新产品-完全无液氦综合物性测量系统PPMS®DynaCool™。它是继多功能振动样品磁强计VersaLab(3T,50K-400K)之后,Quantum Design公司推出的第二款完全无需液氦等任何制冷剂的测量系统。
美国Quantum Design公司近期隆重推出zui新产品-完全无液氦综合物性测量系统PPMS®DynaCool™。它是继多功能振动样品磁强计VersaLab(3T,50K-400K)之后,Quantum Design公司推出的第二款完全无需液氦等任何制冷剂的测量系统。
PPMS DynaCool在功能上仍然是一台PPMS系统,具有以往PPMS系统的所有测量功能。然而由于其杜瓦内部的重新优化设计,使得PPMS DynaCool系统完全不需要液氦等任何制冷剂,系统使用一个二级脉冲管制冷机同时为超导磁体和样品测量提供超低振动的低温环境。并且系统主机就已经集成了产生<10-4Torr高真空的冷泵,从而使PPMS DynaCool能与所有相关选件升级兼容。 · |
系统原理图 |
温度参数: · 温度范围:1.85K-400K · VSM高温炉可扩展高温至1000K · He3制冷机可扩展低温至0.5K · 稀释制冷机可扩展低温至50mK · 降温时间:从300K降至1.9K并稳定<40min · 温度稳定性:±0.1% for T<20K(典型值) ±0.02% for T>20K(典型值) · 控温模式:连续低温控制和温度扫描模式 |
PPMS DynaCool温度扫描曲线,300K降至1.9K少于40分钟 |
磁场参数: 9T磁体 磁场范围:±90000 Oe 达到满场时间:<8min 扫场速率:0.1——200 Oe/S 初次启动时间:~16小时 |
14T磁体 磁场范围:±140000 Oe 达到满场时间:<40min 扫场速率:0.2——120 Oe/S(低场时更快) 初次启动时间:~40小时 |
PPMS 平台提供多种测量手段
功能选件——磁学测量 振动样品磁强计选件(VSM) 采用长程电磁力驱动马达,比传统VSM马达噪音更低。 采用超导磁体,磁场均匀度比传统电磁铁更好。 采用新型控温技术,比传统VSM控温更好。 高温炉组件可将VSM的高温扩展至1000K VSM测量参数: 灵敏度: < 10-6 emu/tesla 噪音基: 6 x 10-7 emu rms 精确度: < 5 x 10-6 emu/tesla 振动频率: 40 Hz 振动幅值: 0.5 to 10 mm 最大可测磁矩: ~ 40 emu 最大可测量磁矩: ~ 75 emu 探测线圈内径: 6.3 mm I.D. 12 mm I.D.(可选) |
长程电磁驱动高精度马达 |
新型交流磁学性质测量选件ACMS II 可同时测AC和DC的磁学性质,而且测交流磁化率精度很高,可与SQUID媲美。 交流磁化率 灵敏度: 1 x 10-8 emu 交流场: 0.005 Oe – 15 Oe (peak) 频率: 10 Hz – 10 KHz 特有的校准线圈组逐点测量并消除了背景相漂移
直流磁化强度 灵敏度: 5 x 10-6 emu |
交流磁化率线圈原理图 |
光诱导磁测量选件(VSM FOSH) 该组件为研究光激发情况下物质磁性变化的zui佳选择。可选波长连续可调的光源。 单色光源 (MLS) 波长范围: 360 nm to 845 nm 光源: 氙灯 – 150 W 光纤:325 - 900 nm (D320-UV) 375-2250 nm (D320-IR) 样品尺寸: 1.6 mm (max) 灵敏度: < 1 x 10-4 emu 可控电子快门 |
光磁样品杆 |
扭矩磁强计选件(Torque Magnetometer) 磁各向异性的高精度测量首 选组件。 扭矩背景噪音: 1×10-9 Nm 磁矩灵敏度: 1×10-7 emu @ 9T 1×10-8 emu @ 14T 扭矩测量范围: ±10-5 Nm 芯片尺寸: 6×6×1 mm3 安装样品区域: 2×2 mm2 最大样品尺寸: 1.5×1.5×0.5 mm3 最大样品质量: 10 mg 角速度(度/秒): 0.05 - 10(标准型) 0.0045 - 1(高精度 型) 角度步长: 0.05°(标准型)0.0045°(高精度型) |
磁扭矩高精度芯片
磁各向异性测量所用旋转样品杆 |
功能选件——电学测量
直流电输运选件( DC Resistivity ) 电流范围: 5nA - 5mA zui高电压: 95mV 电压灵敏度: 20nV (典型值) 电阻测量范围: 4μΩ - 4MΩ 测量精度: 0.01% (典型值)
高 级电输运测量选件(ETO) 噪声基:1 nV/rtHz 电压输出范围:± 4.5 V (一倍增益时) 电流范围:10nA-100mA 持续操作 频率范围:直流或交流(0.1Hz-200Hz) 电阻测量精度:0.1% (R < 200 kΩ) 0.2% (R > 200 kΩ) 相对灵敏度:± 10 nΩ RMS (典型值) 电阻测量范围:四线法10-8Ω-106Ω 二线法106Ω-1010Ω |
电测量用样品托
范德堡法测电阻 channel1四点法测电阻 channel2霍尔测量 |
功能选件——热学测量
比热测量选件(Heat Capacity) l 高精度、高自动化程度的设计 l 便捷的样品安装装置 l 具有自动驰豫的精密量热学技术 l 具有完备的数据收集电子设备和数据分析软件 l 采用出色的双 ι (two tau model™ )模型拟合技术 l 对于每一个测量点系统自动计算和记录德拜温度 测量温度范围:1.9K - 400K(从2K开始出点) 配合He3 制冷机可达<0.4 K 配合稀释制冷机可达50 mK 可测比热范围:1μJ/K – 100mJ/K 样品尺寸: 1mg - 500mg(典型值20mg) 测量灵敏度: 10nJ/K @2K 测量精度: <5% @2K - 300K(典型值<2%) |
比热专用样品托
不同磁场下比热随温度的变化曲线 |
热输运测量选件(TTO) · 独特的设计使得PPMS配合该选件, 能够进行以下参数的测量: AC 电阻率 热导; 热导率 塞贝克系数 热电品质因数 · 利用专用的样品托进行样品安装和固定, 不需要特殊的样品杆 · 四端头引线法将接线头的热阻和电阻效应降到zui低 · 在温度不断变化的情况下进行连续测量,能够得到高密度的数据 · 特有的系统自适应测量方案非常适合研究陌生材料 · 软件可以精确的动态建立热流量模型,补偿各种可能的系统误差 · 全自动的测量过程,操作简单 热传导测量精度 ± 5 %或± 2 μW/K, T < 15 K ± 5 %或± 20 μW/K, 15 K < T < 200 K ± 5 %或± 0.5 mW/K,200 K < T < 300 K ± 5 %或± 1 mW/K, T > 300 K Seebeck 系数 测量精度:± 5 %或± 0.5μV/K 或± 2 μV 测量范围:1 μV/K - 1 V/K |
热输运测量样品示意图
热输运腔外检测装置
电阻率测量 最大电流200mA 品质因子测量 测量精度:±15%(取决于S) 测量速度(典型值) ±0.5 K/min,T>20 K;±0.2 K/min,T<20 K |
QuantumDesign2017年全新推出AC-DR、膨胀系数、光电输运选件
AC-DR稀释制冷机专用交流磁化率选件
全新AC-DR选件配合PPMS稀释制冷机使用,能够实现50mk极限低温下的交流磁化率测量。
频率范围:10Hz-10kHz
温度范围:50mK-4K
Dilatometer膨胀系数选件(Beta)
S. Ran et. al (2015 Dec). Thermal expansion and high magnetic field electrical transport measurements
on Fe substituted URu2Si2. Poster session at the Big Ideas, San Diego, Ca.
光电输运选件
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
- (日本)日本Tohuko
- (瑞典)瑞典Mycronic
- (日本)日本理音
- (美国)美国KLA
- (美国)美国D&S
- (瑞士)瑞士Swisslitho AG
- (德国)德国MBE-Komponenten
- (美国)美国RTI
- (英国)英国牛津真空
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- (美国)美国Nanovea
- (美国)美国德龙
- (日本)日本尼康
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- (美国)美国SONIX
- (德国)德国YXLON
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- (美国)美国Royce
- (美国)美国OGP
- (美国)美国相干
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- (芬兰)芬兰Picosun
- (土耳其)土耳其ADLEMA
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- (英国)英国HHV
- (德国)德国耐驰
- (英国)NanoMagnetics
- (法国)法国Plassys
- (美国)美国Associated Research
- (日本)日立
- (英国)牛津仪器
- (德国)德国克吕士
- (美国)美国SCIEX
- (美国)美国Denton Vacuum
- (日本)日本SEN
- (美国)美国海马
- (德国)德国iplas
- (美国)美国Jelight
- (美国)美国Sinton Instruments
- (美国)美国Nano-Master
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Neocera
- (美国)美国Trion
- (美国)美国UVOCS
- (成都)中科院
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- (德国)德国Diener
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- (美国)美国劳瑞尔
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- (美国)美国MicroChem
- (德国)德国Optosol
- (深圳)深圳一正
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- (日本)日本Advance Riko
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