详细介绍
美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统
完全手工操作
。输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm
。衬底从块大小8平方
。互换抛掷和面具
。紫外灯功率范围从200到2000 w
。选择紫外LED光源(365 nm和405 nm)
。空气轴承真空吸盘
。接近(15-20um): & lt; 3.0 - 5.0, 软接触:2.0um，硬触点:1um和真空接点:≤0.5um
。对齐模块X, Y,和Z轴和θ
。双通道光学反馈
。只提供正面接触w / IR选项
。可用在桌面选项只适用于研发及独立工作
。.占用空间小
。适用于生物学、微机电系统、半导体和 Microfludics CLiPP应用程序
Model 200 Table Top Mask Aligner System
Complete Manual Operation
。 Output Spectra Range: Hg: G (436nm), H (405nm),I(365nm) and 310nm lines, Hg-Xe: 260nm and 220nm orLED: 365nm, 395nm and 405nm
。Substrate Sizes from Pieces to 8” sq
。 Interchangeable chucks and mask holders
。 UV Lamp Power range from 200 to 2,000W
。Option for UV LED (365nm and 405nm) Light Source
。 Air bearing vacuum chuck
。 Proximity (15-20um): <3.0 – 5.0um,
Soft Contact:<2.0um, Hard contact: 1um and
vacuum contact : ≤ 0.5um
。Alignment module X, Y, and Z axis and theta
。 Dual-channel optical feedback
。 Provides Front side exposure only w/ IR Option
。 Available in Table top option only and applicable for R&D and standalone work
。 Small Footprint
。 Applicable for Biology, MEMS, Semiconductor and Microfludics, CLiPP application
产品优势
美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
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