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外延科技 超高真空磁控溅射PVD
- 品牌：外延科技
- 型号： PVD
- 产地：合肥
- 供应商报价： ¥ 2000000
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上海爱仪通网络科技有限公司
更新时间：2024-04-26 16:12:54 -
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- 同类产品样品制备(37件)
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- 详细介绍
超高真空磁控溅射
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。
磁控溅射可 实现高速、低温和低损伤的物理沉积，用于 制备金属、半导体，绝缘体等多种材料。
因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带 电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射速率。
(超高真空磁控溅射)
超高真空磁控溅射
原子级平整:RMS<0.1nm
大面积:1英寸到8英寸
多模式:ON/Off Targets超高真空:10-9 Torr
温度:RT-1000度
(多靶桌面磁控)
桌面磁控溅射系统
三维样品台，倾斜0-45度
2inch 靶(数目定制)
阀门和气路程控
快开式装卸样品
5分钟实现快速换样
触摸屏控制，高度自动化
超高真空磁控溅射系统采用超高真空设计，所有靶枪全金属密封，系统背景真空可以高达10-10Torr。专业的穹形档板设计，可以避免靶之间的污染，并容许一腔更多的靶的紧凑排列，实现一腔室多种材料的组合以及共溅射沉积。采用特有的大尺寸激光加热，我们还可以在高温下 进行薄膜的单晶外延，制备高温YBCO超导薄膜等量子材料.腔体结构灵活 升级，还可以安装离轴靶枪，实现多元材料的原子级制备。腔体可以与 LMBE、MBE等互联，用于复杂多层膜的制备。
无所不在的薄膜技术
- 产品优势
- 原子级平整:RMS<0.1nm
大面积:1英寸到8英寸
多模式:ON/Off Targets
超高真空:10-9 Torr
温度:RT-1000度
