气相沉积技术分类

气相沉积技术是对气相中发生的物理、化学过程加以利用，对工件表面成分进行改变，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨层或具有特殊的光学、电学性能)的金属或化合物涂层在表面形成的新技术。气相沉积一般是将厚度大概为0.5-10微米的一层过渡族元素(钛、钒、铬、锆、钼、钽、铌及铪)与碳、氮、氧和硼的化合物覆盖于工件表面。气相沉积根据过程的本质包括物理气相沉积以及化学气相沉积两大类。气相沉积为强化模具表面的新技术之一，已经在各类模具的表面硬化处理方面得到了非常广泛地应用。TiC，TiN为主要应用的沉积层。

气相沉积技术分类

物理气相沉积

往真空室中放置金属、合金或化合物蒸发(也叫做溅射)，称为物理气相沉积、为一定条件下在工件表面上沉积这些气相原子或分子的工艺。物理气相沉积包括离子镀、真空溅射以及真空蒸镀三类。相较于CVD，有较快的沉积速度、较低的处理温度以及没有公害等为PVD法的主要优点。所以实用价值相当高。沉积层与工件有着非常小的结合力为它的不足之处，镀层有着较小的均匀性。除此以外，其设备有着较高的造价，操作维护的技术也有了比较高的要求。

化学气相沉积

在一定温度下利用气态物质在固体表面进行化学反应，称为化学气相沉积，并且使得固态沉积膜在其表面上生成的过程。下述为过程：

（1）反应气体往工件表面扩散并且被吸附。

（2）在表面吸附于工件表面的各种物质发生化学反应。

（3）生成物质点聚集变成晶体并且增大。

（4）表面化学反应中产生的气体产物从工件脱离往气相返回。

（5）元素的互扩散在沉积层与基体的界面发生，使镀层形成。