4月13日
Nanoscribe将举办首届高精度3D微纳加工主题网络研讨会。
真挚地邀请您加入我们，一起探讨双光子聚合技术（2PP）在增材制造中的重要作用。
届时KIT纳米技术研究院（INT）院士Martin Wegener博士将与我们共同介绍2PP技术原理，并展示用我们无掩模光刻系统所制作的令人印象深刻的应用产品。
我们还将设有问答环节，欢迎一起分享您在项目中碰到的任何问题。
是不是蠢蠢欲动了呢？
快来加入我们吧！
其他资讯：
客户成功案例分享，在预制微流道中实现芯片内直接3D微纳加工制作微流控器件。该项目展示了一种全新的方式来制作具有嵌入式3D微流控器件的二维微流道系统。此外，我们更新的IP光敏树脂包装具备先进的便携式配给功能，采用手动或自动分配方式，能在确保精确计量的同时不产生气泡，使您的日常工作变得更加轻松。
更多有关3D双光子无掩模光刻技术和产品咨询
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德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D无掩模光刻系统：
Photonic Professional GT2 双光子微纳3D无掩模光刻系统
Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印设备
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