EVG720紫外纳米压印

EVG720紫外纳米压印机

一、设备原理：

EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。

二、应用范围

纳米压印技术主要应用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。

三、主要特点及技术参数：

1、主要特点：

。 最 大产量高达40wafers每小时；

。 紫外光曝光；

。配备专用的紫外纳米压印工具；

。 正面对准或者正反双面对准；

。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；

。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。

2、技术参数

• 晶圆尺寸：最 大150mm

• 大面积压印：最 大150mm

• 产能：最 大可到40wafers/小时

• 印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模

• 曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）

• 对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um

• 压印微结构尺寸范围：40nm-2um；

• 压印结构分辨率：≤40纳米

• 压印残留层厚度：≤20纳米

• 滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节

• 图形保型度：≥90%

• 支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°

• 上料系统：3料盒台，现场可升级

u SECS/GEM II: 可选。

公司简介：

EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全 球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。

EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专 利的极其优异的对准技术和世 界 领 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。