NANO-MASTER支持两个系统的任意组合。在产品册上可找到的ALD，溅射，蒸镀，离子铣或IBE，RIE，PECVD等均可以配置为双系统。通过共享真空系统和可能的离子源电源，成本得以下降。腔体通过门阀相互隔离并可以独立抽真空和卸真空。进样室或真空腔体之间的传输可以选配。
特点：
26”x44”占地面积及密封面板柜体，对超净间非常理想
基于计算机全自动工艺控制，菜单驱动
控制系统通过选择用户权限自动切换
LabView友好用户界面
EMO保护及安全联锁
共享两套系统的各自功能(参考各自的系统)
应用：
各种刻蚀应用
各种薄膜沉积应用
各种生长应用
不间断真空环境的双工序应用
具体应用可以参考两个系统的各自应用
选配：
自动上下片(任意腔体)
前级泵升级为干泵
分子泵可以升级为680L/Sec或1200L/Sec
两个腔体之间自带传输腔，实现前后双工序
报价：面议
已咨询460次双腔体真空工艺系统
报价：面议
已咨询761次磁控溅射系统
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已咨询813次磁控溅射系统
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已咨询829次磁控溅射系统
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已咨询748次磁控溅射系统
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已咨询1362次磁控溅射系统
NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3500全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NDT-4000热真空试验箱：NDT-4000是NANO-MASTER进口热真空系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
空间环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
热真空环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。
NIE-3000离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。
LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统为全自动机械手上下载片，可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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