离子源清洗 NIE-3500（M）离子束清洗系统 那诺-马斯特
离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统 那诺-马斯特
离子束清洗 NIE-3000离子束清洗系统 那诺-马斯特
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NIE-3000离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。
NIE-3000离子束清洗系统产品特点：
低成本
离子束：高达2KV/10mA
离子电流密度100-360uA/cm2
离子束直径：4",5",6"
兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
极限真空5x10-7Torr
260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
14"不锈钢或铝质腔体
水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
自动上下载片（NIE-3500）
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
占地面积30"x30"
产品应用：
表面处理
离子铣
表面清洗
带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀
报价：面议
已咨询597次离子束清洗系统
报价：面议
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NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3500全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NDT-4000热真空试验箱：NDT-4000是NANO-MASTER进口热真空系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
空间环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
热真空环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。
NIE-3000离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。
LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统为全自动机械手上下载片，可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
营业执照已审核
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沪公网安备 31011502008050号