高压氧气氛退火炉
实验室氢气发生器 HXCN-H-MF-S600,HXCN-H-MF-S1200
华欣创能实验室氢气发生器 HXCN-H-S600,HXCN-H-S1200
超高纯氢气发生器 (免维护版柜式机)HXCN-H-M0.6,HXCN-H-M1.2,HXCN-H-M5,HXCN-H-M10
高纯度氢气发生器 (免维护版撬装机)HXCN-H-MF-L1, HXCN-H-MF-L2, HXCN-H-MF-L3 ,HXCN-H-MF-L4,HXCN-H-MF-L5
高压氧气氛退火炉:
zui高温度850°C,压力可达150个大气压。可用于高压晶体生长的料棒前处理。
也可用于含氧晶体的高温退火处理。
炉体直径15mm,长度200mm,温度均匀。
多种安全防护机制,保证设备安全运行。
报价:面议
已咨询1461次样品制备
报价:面议
已咨询864次高压氧气氛退火炉
报价:面议
已咨询1083次真空气氛箱式炉
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已咨询1466次材料物理
报价:面议
已咨询383次温度基标准
报价:面议
已咨询1585次薄膜半导体材料制备系统
报价:¥2800
已咨询587次高温管式炉\反射炉\气氛炉
报价:面议
已咨询163次真空炉
竖直双镜设计,采用高照度短弧氙灯; 熔区温度:zui高>3000℃; 熔区压力:10-5 mbar 至 300 bar; 多路独立气体流量和气压控制; 丰富的可升级选件。
Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜、高反射曲面设计,高温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......
专供工矿企业、大专院校、科研单位的实验室作为化学元素分析和小型钢件的淬火、退火、回火等高温热处理用;还可作金属、石器、陶瓷的烧结、溶解、分析等高温加热用。经久耐用的热处理工具。
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