当前位置：仪器网>技术中心> 应用方案> 正文

仪器动态 | Exploiter粉体包裹原子层沉积（PALD）系统

来源：北京正通远恒科技有限公司更新时间：2025-06-06 16:30:17 阅读量：49

导读：粉末原子层沉积（Powder Atomic Layer Deposition，PALD）是原子层沉积（ALD）技术的一种变体，是一种新型的薄膜制备技术。PALD技术在材料科学、能源材料、催化剂、生物医学等领域具有广泛的应用。

粉末原子层沉积（Powder Atomic Layer Deposition，PALD）是原子层沉积（ALD）技术的一种变体，是一种基于原子层沉积（ALD）原理的粉末表面改性方法，通过精确控制化学反应在粉末颗粒表面形成原子级厚度的薄膜。

PALD技术的主要特点是可以在大面积、高效率的情况下对粉末进行表面修饰，同时可以实现对粉末表面的均匀覆盖。PALD技术可以应用于各种粉末材料，包括金属粉末、氧化物粉末、碳材料等。

PALD技术在电池材料、催化剂、传感器、生物医学等领域具有广泛的应用。

电池材料

PALD技术可应用于电池电极材料，尤其是锂离子电池。该技术可以在电极材料表面沉积导电剂或保护层，从而改善电池性能及增加使用寿命。

催化剂

PALD技术可用于制备高效低成本的催化剂（如贵金属/非贵金属催化剂），并能提高催化剂的活性和选择性。

传感器

PALD技术可以用于气敏/光敏等传感器材料。如：PALD制备的纳米氧化物薄膜（如SnO?、ZnO）提升传感器灵敏度和选择性。

生物医学

在医学领域，可利用PALD技术制备生物医学涂层，例如在人工骨骼/人工关节表面沉积生物相容性薄膜（如羟基磷灰石），能提高材料的生物相容性和机械性能。

基于PALD技术的优点，材料研发中心针对原子层沉积技术在粉体表面包裹纳米薄膜做了许多探索。目前，已成功研发粉体包裹原子层沉积系统（PALD）。我们可以通过下述TEM图清楚地观察到氧化硅粉体表面均匀包裹了一层致密的TiO2纳米薄膜。

粉体包裹原子层沉积系统（PALD）

PA系列

设备规格

可处理样品量：克级

工艺温度：温度范围：RT~450°C

前驱体路数：最大支持4路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶

加热系统：可加热温度范围：RT~150℃

反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）
载气：标准：N2, MFC流量控制（可定制）
压力监测：三薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10^-3Torr
真空系统：标准油泵

机架Cabinet

框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好

外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学

显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停

控制系统

控制系统采用PLC+工控机+19寸触摸屏方式实现，通过高速以太网进行通讯。

采用PLC对设备进行实时控制，同时实现基于Windows 7操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能

设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式

设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全

设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止误操作，并弹出信息对话框进行提示

设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能

真空系统

真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺的可重复性提供了可靠的保障

【END】

电话：010-64415767 | 010-64448295

邮箱：info@honoprof.com

地址：北京市朝阳区胜古中路2号院8号楼309室

分享到：
扫码分享

北京正通远恒科技有限公司

400-822-6768

留言咨询

主营产品：薄膜沉积与表征仪器分子相互作用分析仪器表、界面分析测试仪器脉冲激光沉积系统 MP-SPR

产品中心技术文章行业资讯

上一篇: 福立气相的稳定性确保了在长时间分析中数据的准确性和一致性

下一篇: Nanoscribe - 全球最高精度双光子灰度光刻系统

参与评论

登录后参与评论

全部评论(0条)

登录或新用户注册

微信登录
密码登录
短信登录

请用手机微信扫描下方二维码
快速登录或注册新账号

微信扫码，手机电脑联动

注册登录即表示同意《仪器网服务条款》和《隐私协议》

相关产品推荐（★较多用户关注☆）

多参数表面等离子体共振分析仪 MP-SPR 220A
报价：面议已咨询 4399次
多参数表面等离子体共振分析仪 MP-SPR 210A
报价：面议已咨询 4403次
多参数表面等离子体共振分析仪 MP-SPR 200
报价：面议已咨询 5038次
纳米力学测试系统 NanoTest Xtreme
报价：面议已咨询 7204次
纳米力学测试系统 NanoTest Vantage
报价：面议已咨询 5440次
多参数表面等离子体共振分析仪 MP-SPR 420A
报价：面议已咨询 3903次
脉冲激光沉积系统 Pioneer120 Advanced PLD System
报价：面议已咨询 1788次
多参数表面等离子体共振分析仪 MP-SPR 400
报价：面议已咨询 1549次

你可能还想看

技术
资讯
百科
应用

仪器动态 | Exploiter粉体包裹原子层沉积（PALD）系统

粉末技术经过多年的发展，已经形成多样化的制备及加工技术。粉末原子层沉积技术（PALD）是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术，并保持良好的共形性。低成本的规模化粉末原子层沉积技术，目前已广泛应用于锂电、催化、金属、制药等领域。

2025-06-0579阅读
仪器动态 | Exploiter热法原子层沉积（T-ALD）系统

热法原子层沉积（T-ALD）是一种新型的薄膜沉积技术，以精确控制的方式沉积数纳米厚度的薄膜，具有优异的均匀性和原子级控制能力。在半导体器件、光电子器件、能源技术等领域有广泛应用。

2025-10-3050阅读
一文读懂ALD原子层沉积技术

2022-10-2413759阅读原子层沉积 ald原子层 ald设备
原子层沉积技术——精准、逐层“3D打印”催化剂！

2023-12-11577阅读
仪器动态 | Exploiter新一代智能化ALD材料研发系统

20世纪70年代芬兰科学家建立了第一个原子层外延（atomic layer deposition，ALE）沉积系统，成功沉积了ZnS、SnO2、GaP，并因此在1977年获得了世界上第一个原子层沉积（ALD）的发明专利。

2025-05-1768阅读

第一届亚太原子层沉积会议

第一届亚太原子层沉积会议

2024-09-27290阅读
第一届亚太原子层沉积会议

第一届亚太原子层沉积会议\x0d\x0a1st Asian-Pacific Atomic Layer Deposition\x0d\x0a(AP-ALD) Conference\x0d\x0aOct 18-20，2024

2024-09-26324阅读
第一届亚太原子层沉积会议（AP-ALD2024）

第一届亚太原子层沉积会议（AP-ALD2024）

2024-10-16107阅读
原子层沉积技术——“自下而上”JZ构建和调控异质催化剂结构和性能

2020-12-071521阅读
粉体干法图像粒度仪动态图像粒度粒形分析系统产品详情

2024-04-03277阅读

原子层沉积系统研究

原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。

2025-10-13821阅读原子层沉积系统
原子层沉积系统研究

原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。

2025-10-22804阅读原子层沉积系统
原子层沉积概述

原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。

2025-10-233273阅读原子层沉积系统
原子层沉积技术应用

原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。

2025-10-23840阅读原子层沉积系统
原子层沉积原理和应用

原子层沉积系统为一种在化学、材料科学领域进行应用的工艺试验仪器。原子层沉积为一种能够在基底表面通过单原子膜形式一层一层的镀物质的方法。原子层沉积类似于普通的化学沉积。

2025-10-201556阅读原子层沉积系统