三维光刻接触式光刻机的的性能指标

来源：魔技纳米科技有限公司      分类：技术参数 2023-02-03 15:20:27 165阅读次数

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       三维光刻基于多光子聚合原理的纳米级三维激光加工设备，将纳米级高精度与微纳3D加工完 美结合，可实现跨尺度宏微结合的高精度微纳三维加工，满足工业级生产或科学研究设计建模的使用要求。

　　三维光刻接触式光刻机的性能指标： 

　　三维光刻接触式光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 

　　三维光刻接触式光刻机分辨率是对光刻工艺加工可以达到的Z 细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 

　　对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。 

　　曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。 

　　曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

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