LODAS™ – BI12GlassWafe缺陷检查装置特点

LODAS™ – BI12GlassWafe缺陷检查装置是一款面向实验室、科研单位以及工业生产线的光学机器视觉设备，专注于玻璃晶圆及相关基板的表面缺陷检测与分级分析。该系统以高分辨率成像、智能缺陷识别算法和可视化数据输出为核心能力，支持对粒子、点状、裂纹、边缘缺陷等多种常见缺陷形态的快速检测与统计，为良率提升和过程控制提供决策依据。目标场景涵盖玻璃晶圆制造、显示面板基板加工、光学元件涂覆基材以及新能源器件的载玻片检验等环节。

核心技术与性能要点围绕三大维度展开：成像与光源、缺陷识别与分类、数据管理与集成。成像与光源方面，设备配备多波长光照与高分辨率传感器组合，支持外部照明方案自定义，能够在不同表面粗糙度和镀膜条件下获得稳定的缺陷对比度。缺陷识别与分类方面，基于机器视觉与统计学习的算法对表面微观结构进行分级，具备自学习能力的阈值自调节与区域分割，能够区分点状、线状、裂纹以及边缘缺陷等典型类型，并提供置信度评估。数据管理与集成方面，系统提供标准化数据接口、可导出多种格式报告，并支持与实验室信息管理系统(LIMS)及生产线控制系统的无缝对接。

参数与型号（示例，实际以厂商公布为准）

• 常用参数（通用）
• 检测分辨率：0.3–0.5 μm，视场可覆盖常见玻璃晶圆尺寸范围内的关键区域
• 智能检测速度：1–3 s/片，视晶圆尺寸与缺陷密度而定
• 光源配置：多波长组，涵盖365、405、450、550 nm等组合，支持自适应光路切换
• 探测模式：2D表面成像与3D轮廓测量双模式并存
• 数据输出：TIFF、CSV、PDF、JSON等格式，便于后续分析与报告化
• 接口与集成：GigE Vision、USB 3.0、OPC UA等，兼容主流实验室与生产线架构
• 电源与环境：100–240 V交流电，50/60 Hz，工作环境温度15–28°C、相对湿度20–80%（非冷凝）
• 功耗与重量：典型功耗约40–60 W，整机重量在20–28 kg之间，便于桌面或机架安装
• 外形与尺寸：紧凑机身，占用面积适用于实验台和小型生产线间隙
• 可选型号与适配范围（示例描述）
• BI12GlassWafe-XL：适配晶圆尺寸50–300 mm，厚度0.2–1.5 mm，覆盖较大视场，适合全晶圆快速筛选
• BI12GlassWafe-SL：适配尺寸40–150 mm，定位在小尺寸部件的快速检验场景，分辨率优先级稍高
• BI12GlassWafe-M：中等尺寸版本，折中视场与灵敏度，适用于研发–放大样本的日常检测
• 所有型号均支持后续固件升级、光路可选扩展和定制化缺陷模板库导入

主要特点与优势

• 高对比度成像用于微小缺陷的稳定识别，降低误检与漏检率。
• 模块化光路设计便于现场快速改装，针对镀膜、涂覆或表面处理后的样品保持良好检测性能。
• 智能阈值与缺陷分类功能，提供可追溯的缺陷分布统计和区域分析，便于过程控制与良率研判。
• 支持批量数据管理与报告模板，便于建立质控档案和跨设备对比。
• 与实验室信息系统、数据分析平台和生产线控制系统的兼容性，使信息流动更加顺畅。

场景化 FAQ 问：BI12GlassWafe适用于哪些玻璃材料和晶圆尺寸？ 答：该系统设计用于 kaca 基板、玻璃晶圆及相关载板的一致性检测，常见测试尺寸覆盖从约40 mm到300 mm不等，厚度一般适配0.2–2.0 mm范围。不同材料的反射与镀膜情况会影响对比度，建议在上线前以标准样本做基线校准。

问：如何设置阈值与缺陷分类？ 答：阈值初始可用默认模板，结合样品库的统计分布进行微调。系统提供三类核心缺陷模板（点状、线状、裂纹/边缘缺陷）以及耦合的置信度评分。实际生产中建议以良品和已知缺陷样本进行迭代校准，确保误检率与漏检率达到工艺要求。

问：是否支持与生产线或实验室信息系统的集成？ 答：支持多种接口协议，如GigE Vision、USB3.0和OPC UA，便于对接LIMS、MES和IPC。可输出CSV、TIFF和PDF报告，便于统一管控与溯源。

问：维护周期与日常保养要点有哪些？ 答：日常需清洁光学通路与镜头表面，防止尘埃干扰成像。每月检查传感器对焦与光路对准，季度进行相机标定与灯源校准；灯源寿命通常在数千小时级别，需按厂家建议替换。年度进行系统固件升级与备份。

问：数据安全与合规性如何保障？ 答：提供本地存储与可选的云端备份方案，所有导出数据可带时间戳和设备标识，报告模板可定制以符合企业QA流程，并支持多用户权限管理。

简要总结 LODAS™ BI12GlassWafe缺陷检查装置以高分辨率成像、智能缺陷识别与易于集成的数据管理为核心，面向玻璃晶圆及相关基板的表面缺陷检测提供一体化解决方案。通过灵活的型号组合与可扩展的光路设计，系统适配从研发样件到大规模生产的多样化需求，帮助实验室与工业现场提升良率、优化工艺参数并实现可追溯的质量控制。若需要进一步的型号对比、现场验证方案或定制化缺陷模板，请提供样品特征与工艺需求，我们可以据此给出更的参数适配建议。