列真株式会社LODAS™ – AI50/100Photomask Blanks缺陷检查装置参数

LODAS™ – AI50/100 Photomask Blanks缺陷检查装置参数

在半导体制造中，光掩模（Photomask）作为一种关键工具，其质量对芯片的生产至关重要。随着半导体工艺的日益复杂，光掩模的缺陷检测也变得更加重要。列真株式会社的LODAS™系列光掩模空白（Photomask Blanks）缺陷检查装置，特别是AI50与AI100型号，在这一领域中占据了举足轻重的地位。本篇文章将详细介绍这些设备的参数、型号、特点以及应用场景，帮助实验室、科研和工业从业者更好地理解和选择适合的检测工具。

设备概述

LODAS™系列缺陷检查装置是一款高精度、高灵敏度的设备，专为光掩模空白检测而设计。光掩模空白是用于半导体光刻工艺中的基础材料，任何微小的缺陷都可能影响的产品质量。LODAS™ AI50与AI100通过采用先进的光学成像技术与高效的缺陷识别算法，能够对光掩模空白进行全面、精确的缺陷检测。

产品型号及参数

1. LODAS™ AI50 Photomask Blanks缺陷检查装置

• 检测类型：光学缺陷检测
• 检测波长范围：193nm、248nm（可根据需求定制）
• 检测分辨率：0.1μm
• 扫描速度：最大2.5片/分钟
• 缺陷类型识别：颗粒、裂纹、划痕、缺失、污染等
• 设备尺寸：1200mm x 1800mm x 1600mm
• 显示方式：高清液晶显示器，支持多视角显示
• 接口：支持USB3.0、Ethernet
• 功率要求：AC 220V, 50/60Hz
• 适用环境：洁净室环境（ISO 5级或更高）

LODAS™ AI50针对中等精度要求的生产线应用，适用于普通光掩模空白的缺陷检测。其较高的扫描速度和较低的操作成本使其成为众多中型实验室及半导体生产企业的优选设备。

2. LODAS™ AI100 Photomask Blanks缺陷检查装置

• 检测类型：高精度光学缺陷检测
• 检测波长范围：193nm、248nm（可根据需求定制）
• 检测分辨率：0.05μm（较AI50更高）
• 扫描速度：最大1.5片/分钟
• 缺陷类型识别：颗粒、裂纹、划痕、污染、缺失、偏光异常等
• 设备尺寸：1500mm x 2000mm x 1800mm
• 显示方式：高分辨率液晶显示器，支持360度旋转显示
• 接口：支持USB3.1、Ethernet、HDMI
• 功率要求：AC 220V, 50/60Hz
• 适用环境：洁净室环境（ISO 5级或更高）

LODAS™ AI100是专为高精度光掩模空白检测设计的设备，特别适用于对光掩模空白缺陷精度要求较高的场景，如高端半导体制造及高精度光学元件的生产。由于其超高分辨率和的缺陷识别能力，AI100能有效降低光掩模生产中的缺陷率，提升产品的良品率。

设备特点

1. 高精度缺陷检测 LODAS™ AI50与AI100均配备先进的成像系统，能够实现高分辨率的缺陷检测。AI100比AI50拥有更高的分辨率，能够识别更微小的缺陷。两者均支持全自动缺陷识别，减少人为干预和误差。

   
   

2. 灵活的检测波长设置 根据不同的应用需求，LODAS™系列设备提供了可定制的检测波长选择。用户可以根据实际情况调整检测波长，确保设备适用于不同类型的光掩模空白。

   
   

3. 快速高效的扫描速度 LODAS™系列具有较高的扫描速度，AI50大可达到2.5片/分钟，AI100的扫描速度为1.5片/分钟，确保在高产量需求下也能保持高效的工作效率。

   
   

4. 智能化缺陷分类与分析 设备内置智能缺陷分类系统，通过深度学习算法对不同类型的缺陷进行智能识别、分类与分析，能够准确区分颗粒、裂纹、污染等多种缺陷类型。

   
   

5. 优化的界面和操作体验 LODAS™系列采用易于操作的界面设计，支持高清显示器与360度旋转显示，便于用户实时查看检测结果和缺陷位置。其人性化的操作系统使得用户可以在短时间内熟练掌握设备操作。

   
   

6. 可靠的环境适应性 LODAS™系列能够在洁净室环境中稳定运行，符合ISO 5级洁净室标准，确保检测过程中不受环境因素的干扰，保障检测精度和数据的准确性。

   
   

FAQ

1. LODAS™设备可以检测哪些类型的缺陷？

LODAS™系列设备能够检测光掩模空白中的各种缺陷，包括但不限于颗粒、裂纹、划痕、缺失、污染等。AI100型号还支持偏光异常等更复杂的缺陷识别。

2. LODAS™ AI50与AI100的主要区别是什么？

AI50和AI100的主要区别在于检测分辨率和扫描速度。AI50的检测分辨率为0.1μm，适用于一般精度要求的检测场景；而AI100则提供更高的分辨率（0.05μm），适用于对精度要求更高的半导体制造和光学元件生产。

3. LODAS™设备是否支持定制化配置？

是的，LODAS™系列设备支持根据客户需求进行定制化配置，包括检测波长范围、扫描速度等。用户可以根据具体应用场景调整设备的参数，以满足不同生产线的要求。

4. LODAS™设备需要在什么样的环境中使用？

LODAS™设备适用于洁净室环境（ISO 5级或更高）。为了确保设备的正常运行和检测精度，建议在符合标准的洁净室中使用。

5. 使用LODAS™设备时是否需要专业人员操作？

虽然LODAS™设备配备了简便易用的操作界面，但为了获得佳检测效果，建议操作人员具备一定的半导体生产和光学检测相关知识。在设备培训后，操作人员即可轻松掌握设备的基本操作。

总结

列真株式会社的LODAS™系列Photomask Blanks缺陷检查装置，凭借其高精度、高效率和智能化的特点，成为半导体制造、光学元件生产及相关领域的理想选择。无论是AI50还是AI100，均可根据不同的生产需求提供可靠的光掩模空白缺陷检测服务，为客户提升生产效率、降低缺陷率提供强有力的保障。