详细介绍
SUSS,EVG, OAI等系列光刻机用曝光灯HBO系列
详细介绍
SUSS苏斯,EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机,目前得到业界的广泛认同,该系列光刻机曝光系统的曝光灯,主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列,具备良好的光通量,稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。目前供苏斯光刻机配套的相关参数如下:
HBO® short-arc mercury varour lamps for microlithography
适用SUSS苏斯光刻机型的曝光灯
灯管型号 寿命(H) 适用SUSS苏斯光刻机型
HBO 200W/DC 1000H MJB3, MJB4
HBO 350W/S 600H MA4, MA6, MA/BA6,MA8, MA150, MJB3, MJB21,UV300/500
HBO 1000W/D 1000H MA150,MA200,MA4,MA6, MA/BA6,MA8
HBO 5000W/S 1000H MA300
以下是欧司朗曝光灯的技术参数,适用于SUSS苏斯,EVG, OAI等光刻机:
产品优势
SUSS苏斯,EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机,目前得到业界的广泛认同,该系列光刻机曝光系统的曝光灯,主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列,具备良好的光通量,稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
- (日本)日本Tohuko
- (瑞典)瑞典Mycronic
- (日本)日本理音
- (美国)美国KLA
- (美国)美国D&S
- (瑞士)瑞士Swisslitho AG
- (德国)德国MBE-Komponenten
- (美国)美国RTI
- (英国)英国牛津真空
- (日本)日本电子
- (德国)德国UniTemp
- (美国)美国Nanovea
- (美国)美国德龙
- (日本)日本尼康
- (美国)湖岸LakeShore
- (美国)美国SONIX
- (德国)德国YXLON
- (美国)美国OAI
- (美国)美国阿兹特克
- (美国)美国Royce
- (美国)美国OGP
- (美国)美国相干
- (深圳)杰普特
- (美国)美国Filmetrics
- (美国)美国Thorlabs
- (美国)美国nanoArch
- (英国)英国Quorum
- (美国)美国Anasazi
- (美国)美国Montana Instruments
- (芬兰)芬兰Picosun
- (土耳其)土耳其ADLEMA
- (苏州)苏州纽迈
- (法国)法国Alyxan
- (英国)英国NanoBeam
- (德国)德国YXLON
- (德国)德国neaspec
- (瑞典)瑞典NanOsc
- (德国)德国Sentech
- (德国)德国Attocube Systems
- (东莞)庆达VIPUV
- (英国)英国HHV
- (德国)德国耐驰
- (英国)NanoMagnetics
- (法国)法国Plassys
- (美国)美国Associated Research
- (日本)日立
- (英国)牛津仪器
- (德国)德国克吕士
- (美国)美国SCIEX
- (美国)美国Denton Vacuum
- (日本)日本SEN
- (美国)美国海马
- (德国)德国iplas
- (美国)美国Jelight
- (美国)美国Sinton Instruments
- (美国)美国Nano-Master
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Neocera
- (美国)美国Trion
- (美国)美国UVOCS
- (成都)中科院
- (台北)台湾正恩科技
- (比利时)比利时宝镭泽
- (德国)德国Allresist
- (瑞士)瑞士Sawatec
- (德国)德国Diener
- (美国)美国AZ technology
- (美国)美国劳瑞尔
- (美国)美国Uvitron
- (英国)英国EMS
- (美国)美国MicroChem
- (德国)德国Optosol
- (深圳)深圳一正
- (德国)德国FS Bondtec
- (美国)美国Newport
- (英国)英国MML
- (美国)美国Nisene
- (美国)美国VTI
- (美国)美国FEI
- (美国)美国RKD
- (德国)德国PVA TePla
- (日本)日本理学
- (英国)英国AML
- (美国)美国PI
- (日本)富士
- (日本)日本Advance Riko
- (美国)美国Sonoplot
- (香港)托普斯
- (美国)美国Quantum Design
- (美国)美国泰德派勒
- (丹麦)丹麦NIL TECHNOLOGY
- (日本)日本RIBM
- (美国)美国SCS
- (瑞典)瑞典Obducat
- (德国)德国布鲁克
- (韩国)韩国ATI
- (德国)德国海德堡
- (日本)日本伊领科思
- (美国)赛默飞世尔
- (西班牙)西班牙Mecwins
- (德国)德国纳糯
- (德国)徕卡生物系统
- (美国)美国泰克
- (美国)美国Harrick
- (德国)德国SUSS MicroTec
- (日本)日本基恩士
- (瑞士)瑞士nanosurf
- (德国)德国ParcanNano
- (德国)德国蔡司
- (奥地利)奥地利EVG
- (美国)美国MMR
- (英国)英国牛津
- (德国)德国Raith
- (日本)日本 Ulvac
- (韩国)韩国ECOPIA
- (德国)凯斯安KSI
- (德国)德国Eulitha
- (苏州)苏州纳维科技
- (新竹)台湾智果整合
- (德国)德国Nanoscribe
- (俄罗斯)俄罗斯Optosystem
- (法国)法国Annealsys
- (德国)德国Klocke Nanotechnik
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