匀胶机 SM-150 是手动或半自动薄膜涂覆的zui佳选择,适用于表面没有或有非常矮形貌的基板涂胶作业。所有市面上的光刻胶与涂层材料都可被均匀涂覆到尺寸最大为 150mm (6”) 127x127mm (5”x5”)的基板上。工艺腔设计可满足最大直径为 176mm。
SM系列的优点在于,具有令人信服的高度涂膜均匀性和工艺重复性,并且操作简单、使用舒适。为了使花费在工艺腔清洁上的精力最小化,SAWATEC 公司开发了一种极其实用且经济的工艺腔保护碗。工艺结束后,可以简单地移除和清理这种保护 碗。经由如此的高品质设计,也可以将维护成本最小化。因此,SAWATEC匀胶机可被优先应用于实验室,研发,试产项目以及研究所。
功能(基本配置)
。可编程,最多 50 个程序(各包含 24 个程序段)
。适用于重复工艺的快速启动功能
。触摸屏面板控制,方便用户程序配置工艺参数:转速、加速度、工艺时间旋转方向可选 (顺时针、逆时针)
。手动装卸基板
。通过具有安全保护的真空系统进行基板固定
。手动盖子带有空气入口和闭合安全保护工艺结束时的声音信号
性能数据
。速范围:0 到 10,000rpm +/-1rpm
。转速加速度:0–8,000rpm 为0.8秒/0–10,000rpm为1秒 1)
。减速度:10,000rpm-0 为2.5秒/8,000rpm-0 为0.8秒 1)
。工艺时间最长为 2376 s
。每个程序段的给胶时间为 99 s
附加功能(可选项)
。半自动的管式给胶系统,带有手动给胶手臂和回吸功能的
。工艺腔的手动氮气净化装置
。用于简化操作的“启动/停止”脚踏开关(电缆长度 1.8m)
。经阳极电镀处理的铝制工艺腔
。铝制或 PE(聚乙烯)材料制成的工艺腔保护碗用于 SM-150 匀胶机的真空泵
。晶圆定位器 2”–6”(圆形)
旋转卡盘分类
为了达成wan美涂覆效果,我们提供了不同尺寸、材料和设计的旋转卡盘。根据用途的不同,可使用单块结构或具有光学辅助置中功能的两部分构成的旋转卡盘。为避免基板背面被弄脏,有时不仅要选择zui佳的旋转卡盘尺寸,还要采用专门的卡盘设计。旋转卡盘的更换过程非常简单,不需要使用工具。
。真空卡盘小片
。真空卡盘 1” 3”(圆形)
。真空卡盘 100mm(4”) 150mm(6”)
。真空卡盘 100x100mm(4”x4”) 真空卡盘 125x125mm(5”x5”) 其他卡盘需咨询
设计和尺寸
。桌上式版本 SM -150-BT,
。内嵌式版本 SM-150-BM
。紧凑且节省空间的结构形式
。POM(聚甲醛树脂)材料制成的工艺碗,确保了高材料兼容性
。POM(聚甲醛树脂)材料制成的集成式防溅环,确保无光刻胶溅出。透明盖板:玻璃制成
。具有 3.5” 彩色显示屏的触摸屏面板
。高精度,高动态的交流伺服电机
。经电解抛光处理的不锈钢外壳
。外壳(BT): 350 x 510 x 403mm (长*宽*高)
。重量(BT): 约 29kg
。安装模块(BM): 300 x 300 x 368mm (长 x 宽 x
。安装面板 320 x 166 x 50mm ( 长 x 宽 x
。重量(BM): 约 20kg
接口
。230 VAC 50/60Hz 10A
。脚踏开关用插头接口
。技术真空,软管 Ø6/4mm(-0.8bar)
。压缩空气或氮气软管Ø6/4mm(3bar) (仅 限于和给胶系统配合使用)
。排放接口 Ø12mm
。BT 废气接口 Ø38mm(20–50m3/h) BM 废气接口 Ø25mm(20–50m3/h)
适用于重复工艺的快速启动功能;
触摸屏面板控制,方便用户程序配置工艺参数:转速、加速度、工艺时间旋转方向可选 (顺时针、逆时针)。
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (英国)NanoMagnetics
- (法国)法国Plassys
- (美国)美国Associated Research
- (日本)日立
- (英国)牛津仪器
- (德国)德国克吕士
- (美国)美国SCIEX
- (美国)美国Denton Vacuum
- (日本)日本SEN
- (美国)美国海马
- (德国)德国iplas
- (美国)美国Jelight
- (美国)美国Sinton Instruments
- (美国)美国Nano-Master
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Neocera
- (美国)美国Trion
- (美国)美国UVOCS
- (成都)中科院
- (台北)台湾正恩科技
- (比利时)比利时宝镭泽
- (德国)德国Allresist
- (瑞士)瑞士Sawatec
- (德国)德国Diener
- (美国)美国AZ technology
- (美国)美国劳瑞尔
- (美国)美国Uvitron
- (英国)英国EMS
- (美国)美国MicroChem
- (德国)德国Optosol
- (深圳)深圳一正
- (德国)德国FS Bondtec
- (美国)美国Newport
- (英国)英国MML
- (美国)美国Nisene
- (美国)美国VTI
- (美国)美国FEI
- (美国)美国RKD
- (德国)德国PVA TePla
- (日本)日本理学
- (英国)英国AML
- (美国)美国PI
- (日本)富士
- (日本)日本Advance Riko
- (美国)美国Sonoplot
- (香港)托普斯
- (美国)美国Quantum Design
- (美国)美国泰德派勒
- (丹麦)丹麦NIL TECHNOLOGY
- (日本)日本RIBM
- (美国)美国SCS
- (瑞典)瑞典Obducat
- (德国)德国布鲁克
- (韩国)韩国ATI
- (德国)德国海德堡
- (日本)日本伊领科思
- (美国)赛默飞世尔
- (西班牙)西班牙Mecwins
- (德国)德国纳糯
- (德国)徕卡生物系统
- (美国)美国泰克
- (美国)美国Harrick
- (德国)德国SUSS MicroTec
- (日本)日本基恩士
- (瑞士)瑞士nanosurf
- (德国)德国ParcanNano
- (德国)德国蔡司
- (奥地利)奥地利EVG
- (美国)美国MMR
- (英国)英国牛津
- (德国)德国Raith
- (日本)日本 Ulvac
- (韩国)韩国ECOPIA
- (德国)凯斯安KSI
- (德国)德国Eulitha
- (苏州)苏州纳维科技
- (新竹)台湾智果整合
- (德国)德国Nanoscribe
- (俄罗斯)俄罗斯Optosystem
- (法国)法国Annealsys
- (德国)德国Klocke Nanotechnik
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
- (日本)日本Tohuko
- (瑞典)瑞典Mycronic
- (日本)日本理音
- (美国)美国KLA
- (美国)美国D&S
- (瑞士)瑞士Swisslitho AG
- (德国)德国MBE-Komponenten
- (美国)美国RTI
- (英国)英国牛津真空
- (日本)日本电子
- (德国)德国UniTemp
- (美国)美国Nanovea
- (美国)美国德龙
- (日本)日本尼康
- (美国)湖岸LakeShore
- (美国)美国SONIX
- (德国)德国YXLON
- (美国)美国OAI
- (美国)美国阿兹特克
- (美国)美国Royce
- (美国)美国OGP
- (美国)美国相干
- (深圳)杰普特
- (美国)美国Filmetrics
- (美国)美国Thorlabs
- (美国)美国nanoArch
- (英国)英国Quorum
- (美国)美国Anasazi
- (美国)美国Montana Instruments
- (芬兰)芬兰Picosun
- (土耳其)土耳其ADLEMA
- (苏州)苏州纽迈
- (法国)法国Alyxan
- (英国)英国NanoBeam
- (德国)德国YXLON
- (德国)德国neaspec
- (瑞典)瑞典NanOsc
- (德国)德国Sentech
- (德国)德国Attocube Systems
- (东莞)庆达VIPUV
- (英国)英国HHV
- (德国)德国耐驰
-
仪企号深圳市蓝星宇电子科技有限公司
-
友情链接