详细介绍
URE-2000/A8 紫外单面光刻机
1、设备主要技术指标：
(1) 曝光面积： 200mm×200mm；
（2）分辨力：≤ 2μm；
（3）对准精度：±2μm；
（4）掩模尺寸：5 英寸、7 英寸、9 英寸；
（5）样片尺寸：4 英寸、6 英寸、8 英寸；
（6）wafer chuck 表面：防止光反射涂层；
（7）掩模样片整体运动范围：X：10mm;Y:10mm；
（8）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; Thelta: ±6°；
（9）汞灯功率：1000W（直流）；
（10）曝光能量密度：≥ 15mW/cm 2 ；
（11）曝光峰值波长:365nm；
（12）曝光方式：定时（计时方式 0.1s—999.9s）；
（13）调平接触压力通过传感器保证重复
（14）数字设定对准间隙和曝光间隙
（15）具备压印模块接口，也具备接近模块接口
2．技术主要组成部分
（1）曝光头系统包括:
。 冷光椭球镜；
。德国 OSRAM1000W 直流高压汞灯；
。XYZ 汞灯调节台；
。 光学系统（冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜）；
。 冷却风扇。
（2）对准工件台系统包括:
。掩模样片相对运动台；
。（XY），转动台；
。 样片调平机构；
。 样片调焦机构；
。 承片台 3 个： 4 英寸、6 英寸、8 英寸；
。 掩模夹 3 个：5 英寸、7 英寸、9 英寸。
（3）CCD 对准显微镜系统包括:
。4 倍显微镜 2 只；
。照明光源 2 套；
。 CCD 相机 2 只；
。22 英寸液晶显示器。
（5）电控系统：
。 汞灯触发电源(1000W)；
。 单片机控制系统；
。 控制柜桌。
（6）气动系统系统包括:
。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关，电磁阀驱动，气动仪表等
（7）其他配置与附件
。真空泵一台；
。空压机一台；
。 配套气管 10m；
产品优势
URE-2000/A8 紫外单面光刻机，曝光面积： 200mm×200mm；分辨力：≤ 2μm
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- （英国）NanoMagnetics
- （法国）法国Plassys
- （美国）美国Associated Research
- （日本）日立
- （英国）牛津仪器
- （德国）德国克吕士
- （美国）美国SCIEX
- （美国）美国Denton Vacuum
- （日本）日本SEN
- （美国）美国海马
- （德国）德国iplas
- （美国）美国Jelight
- （美国）美国Sinton Instruments
- （美国）美国Nano-Master
- （美国）美国novascan
- （美国）美国Neocera
- （美国）美国Trion
- （美国）美国UVOCS
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- （台北）台湾正恩科技
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