URE-2000/600 紫外单面光刻机
1、设备主要技术指标:
(1)光束口径: 650mm×650mm
(2)有效曝光面积:600mm×600mm
(3)分辨力:≤3μm
(4)对准精度: ±1.5μm
(5)对准显微镜中点距:75mm-600mm 可调
(6)掩模尺寸:650mm×650mm
(7)样片尺寸:可适应Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm 300mm×300mm;450mm×450mm;600mm×600mm,厚度为 0.2mm~20mm 的多种规格样片;
(8)光源不均匀性:≥ 95%(Ф600mm)
(9)掩模相对于样片运动行程:X: ± 15mm; Y: ± 15mm; Z:15mm Thelta: ± 10º
(10)曝光面光强:>15mW/cm2(i、g、h 线)
(11)汞灯功率:2500W(直流)
(12)曝光量设定方式:定时(计时方式 0.1s-9999.9s,设定精度 0.1s)
2.技术主要组成部分
大面积精细胶模图形结构成型机组成主要由:高均匀照明曝光系统、对准工件台系统、CCD 对准系统、计算机控制系统、气动控制系统及辅助设备构成。各系统构成与配置
如下:
(1)高均匀照明系统包括:
。 冷光椭球镜;
。2500W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)
。XYZ 汞灯调节台;
。 光学系统:椭球反射镜、光栏、快门、平面冷光反射镜 1、平面冷光反射镜 2、蝇眼透镜组、抛物面冷光反射镜;
。 冷却风扇;
。 循环水冷系统。
(2)对准工件台系统包括:
。掩模样片相对运动台;
。 转动台;
。 样片调平机构,自动完成;
。样片调焦机构,自动调整;
。承片台 10 个:Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm 及 300mm×300mm;450mm×450mm;600mm×600mm;
。 掩模夹 1 个:650mm×650mm;
。 抽拉式上下片机构。
(3)CCD 对准系统包括:
。 光源、电源;
。 显微镜工作台;
。 成像光学系统(两套);
。 数据采集卡;
。 CCD 图像处理部件(两套)。
(4)电控系统包括:
。 大功率汞灯触发电源;
。单片机控制系统;
。 薄膜开关面板;
。 控制柜桌;
(5)气动系统包括:
。 气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等;
3 。电磁阀驱动部件;
。 气动显示仪表。
(6)其他配套附件
。 真空泵一台(无油泵、SK-65C 型);
。 空压机一台(静音型、YB-W30 型);
。水冷机一台(H35W 型);
。 配套接口管道
3.相关技术资料:
。设备使用及维护说明书
。出厂检验合格证。
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (英国)NanoMagnetics
- (法国)法国Plassys
- (美国)美国Associated Research
- (日本)日立
- (英国)牛津仪器
- (德国)德国克吕士
- (美国)美国SCIEX
- (美国)美国Denton Vacuum
- (日本)日本SEN
- (美国)美国海马
- (德国)德国iplas
- (美国)美国Jelight
- (美国)美国Sinton Instruments
- (美国)美国Nano-Master
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Neocera
- (美国)美国Trion
- (美国)美国UVOCS
- (成都)中科院
- (台北)台湾正恩科技
- (比利时)比利时宝镭泽
- (德国)德国Allresist
- (瑞士)瑞士Sawatec
- (德国)德国Diener
- (美国)美国AZ technology
- (美国)美国劳瑞尔
- (美国)美国Uvitron
- (英国)英国EMS
- (美国)美国MicroChem
- (德国)德国Optosol
- (深圳)深圳一正
- (德国)德国FS Bondtec
- (美国)美国Newport
- (英国)英国MML
- (美国)美国Nisene
- (美国)美国VTI
- (美国)美国FEI
- (美国)美国RKD
- (德国)德国PVA TePla
- (日本)日本理学
- (英国)英国AML
- (美国)美国PI
- (日本)富士
- (日本)日本Advance Riko
- (美国)美国Sonoplot
- (香港)托普斯
- (美国)美国Quantum Design
- (美国)美国泰德派勒
- (丹麦)丹麦NIL TECHNOLOGY
- (日本)日本RIBM
- (美国)美国SCS
- (瑞典)瑞典Obducat
- (德国)德国布鲁克
- (韩国)韩国ATI
- (德国)德国海德堡
- (日本)日本伊领科思
- (美国)赛默飞世尔
- (西班牙)西班牙Mecwins
- (德国)德国纳糯
- (德国)徕卡生物系统
- (美国)美国泰克
- (美国)美国Harrick
- (德国)德国SUSS MicroTec
- (日本)日本基恩士
- (瑞士)瑞士nanosurf
- (德国)德国ParcanNano
- (德国)德国蔡司
- (奥地利)奥地利EVG
- (美国)美国MMR
- (英国)英国牛津
- (德国)德国Raith
- (日本)日本 Ulvac
- (韩国)韩国ECOPIA
- (德国)凯斯安KSI
- (德国)德国Eulitha
- (苏州)苏州纳维科技
- (新竹)台湾智果整合
- (德国)德国Nanoscribe
- (俄罗斯)俄罗斯Optosystem
- (法国)法国Annealsys
- (德国)德国Klocke Nanotechnik
- (荷兰)荷兰TSST
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (德国)德国Finetech
- (日本)日本AND
- (日本)日本Tohuko
- (瑞典)瑞典Mycronic
- (日本)日本理音
- (美国)美国KLA
- (美国)美国D&S
- (瑞士)瑞士Swisslitho AG
- (德国)德国MBE-Komponenten
- (美国)美国RTI
- (英国)英国牛津真空
- (日本)日本电子
- (德国)德国UniTemp
- (美国)美国Nanovea
- (美国)美国德龙
- (日本)日本尼康
- (美国)湖岸LakeShore
- (美国)美国SONIX
- (德国)德国YXLON
- (美国)美国OAI
- (美国)美国阿兹特克
- (美国)美国Royce
- (美国)美国OGP
- (美国)美国相干
- (深圳)杰普特
- (美国)美国Filmetrics
- (美国)美国Thorlabs
- (美国)美国nanoArch
- (英国)英国Quorum
- (美国)美国Anasazi
- (美国)美国Montana Instruments
- (芬兰)芬兰Picosun
- (土耳其)土耳其ADLEMA
- (苏州)苏州纽迈
- (法国)法国Alyxan
- (英国)英国NanoBeam
- (德国)德国YXLON
- (德国)德国neaspec
- (瑞典)瑞典NanOsc
- (德国)德国Sentech
- (德国)德国Attocube Systems
- (东莞)庆达VIPUV
- (英国)英国HHV
- (德国)德国耐驰
-
仪企号深圳市蓝星宇电子科技有限公司
-
友情链接