中科光电URE-2000/30D 型(定制)紫外光刻机
中科光电紫外光刻机URE-2000/34AL
URE-2000/35 AL 型紫外单面光刻机
URE-2000S/25S 型双面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000/600 紫外单面光刻机
1、设备主要技术指标:
(1)光束口径: 650mm×650mm
(2)有效曝光面积:600mm×600mm
(3)分辨力:≤3μm
(4)对准精度: ±1.5μm
(5)对准显微镜中点距:75mm-600mm 可调
(6)掩模尺寸:650mm×650mm
(7)样片尺寸:可适应Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm 300mm×300mm;450mm×450mm;600mm×600mm,厚度为 0.2mm~20mm 的多种规格样片;
(8)光源不均匀性:≥ 95%(Ф600mm)
(9)掩模相对于样片运动行程:X: ± 15mm; Y: ± 15mm; Z:15mm Thelta: ± 10º
(10)曝光面光强:>15mW/cm2(i、g、h 线)
(11)汞灯功率:2500W(直流)
(12)曝光量设定方式:定时(计时方式 0.1s-9999.9s,设定精度 0.1s)
2.技术主要组成部分
大面积精细胶模图形结构成型机组成主要由:高均匀照明曝光系统、对准工件台系统、CCD 对准系统、计算机控制系统、气动控制系统及辅助设备构成。各系统构成与配置
如下:
(1)高均匀照明系统包括:
。 冷光椭球镜;
。2500W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)
。XYZ 汞灯调节台;
。 光学系统:椭球反射镜、光栏、快门、平面冷光反射镜 1、平面冷光反射镜 2、蝇眼透镜组、抛物面冷光反射镜;
。 冷却风扇;
。 循环水冷系统。
(2)对准工件台系统包括:
。掩模样片相对运动台;
。 转动台;
。 样片调平机构,自动完成;
。样片调焦机构,自动调整;
。承片台 10 个:Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm 及 300mm×300mm;450mm×450mm;600mm×600mm;
。 掩模夹 1 个:650mm×650mm;
。 抽拉式上下片机构。
(3)CCD 对准系统包括:
。 光源、电源;
。 显微镜工作台;
。 成像光学系统(两套);
。 数据采集卡;
。 CCD 图像处理部件(两套)。
(4)电控系统包括:
。 大功率汞灯触发电源;
。单片机控制系统;
。 薄膜开关面板;
。 控制柜桌;
(5)气动系统包括:
。 气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等;
3 。电磁阀驱动部件;
。 气动显示仪表。
(6)其他配套附件
。 真空泵一台(无油泵、SK-65C 型);
。 空压机一台(静音型、YB-W30 型);
。水冷机一台(H35W 型);
。 配套接口管道
3.相关技术资料:
。设备使用及维护说明书
。出厂检验合格证。
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。