仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册2 登录
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-产品库- 视频

产品中心

仪器网>产品中心> 深圳市蓝星宇电子科技有限公司>光刻机/3D打印机/电子束直写仪>中国科学院>URE-2000/600 紫外单面光刻机

URE-2000/600 紫外单面光刻机

面议 (具体成交价以合同协议为准)
中科院 URE-2000/600 四川 成都 2026-01-23 09:12:27
售全国 入驻:8年 等级:金牌 营业执照已审核
同款产品:中国科学院(27件)
扫    码    分   享

立即扫码咨询

13538131258

已通过仪器网认证,请放心拨打!

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的,谢谢!

为你推荐

产品特点:

URE-2000/600 紫外单面光刻机,光束口径: 650mm×650mm,对准精度: ±1.5μm

产品详情:


URE-2000/600 紫外单面光刻机

1、设备主要技术指标:

(1)光束口径: 650mm×650mm

(2)有效曝光面积:600mm×600mm

(3)分辨力:≤3μm

(4)对准精度: ±1.5μm

(5)对准显微镜中点距:75mm-600mm 可调

(6)掩模尺寸:650mm×650mm

(7)样片尺寸:可适应Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm 300mm×300mm;450mm×450mm;600mm×600mm,厚度为 0.2mm~20mm 的多种规格样片;

(8)光源不均匀性:≥ 95%(Ф600mm)

(9)掩模相对于样片运动行程:X: ± 15mm; Y: ± 15mm; Z:15mm Thelta: ± 10º

(10)曝光面光强:>15mW/cm2(i、g、h 线)

(11)汞灯功率:2500W(直流)

(12)曝光量设定方式:定时(计时方式 0.1s-9999.9s,设定精度 0.1s)

 

2.技术主要组成部分

大面积精细胶模图形结构成型机组成主要由:高均匀照明曝光系统、对准工件台系统、CCD 对准系统、计算机控制系统、气动控制系统及辅助设备构成。各系统构成与配置

如下:

(1)高均匀照明系统包括:

。 冷光椭球镜;

。2500W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)

。XYZ 汞灯调节台;

。 光学系统:椭球反射镜、光栏、快门、平面冷光反射镜 1、平面冷光反射镜 2、蝇眼透镜组、抛物面冷光反射镜;

。 冷却风扇;

。 循环水冷系统。

 

(2)对准工件台系统包括:

。掩模样片相对运动台;

。 转动台;

。 样片调平机构,自动完成;

。样片调焦机构,自动调整;

。承片台 10 个:Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm 及 300mm×300mm;450mm×450mm;600mm×600mm;

。 掩模夹 1 个:650mm×650mm;

。 抽拉式上下片机构。

 

(3)CCD 对准系统包括:

。 光源、电源;

。 显微镜工作台;

。 成像光学系统(两套);

。 数据采集卡;

。 CCD 图像处理部件(两套)。

 

(4)电控系统包括:

。 大功率汞灯触发电源;

。单片机控制系统;

。 薄膜开关面板;

。 控制柜桌;

 

(5)气动系统包括:

。 气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等;

3 。电磁阀驱动部件;

。 气动显示仪表。

 

(6)其他配套附件

。 真空泵一台(无油泵、SK-65C 型);

。 空压机一台(静音型、YB-W30 型);

。水冷机一台(H35W 型);

。 配套接口管道

 

3.相关技术资料:

。设备使用及维护说明书

。出厂检验合格证。


您可能感兴趣的产品

深圳市蓝星宇电子科技有限公司为你提供URE-2000/600 紫外单面光刻机信息大全,包括URE-2000/600 紫外单面光刻机价格、型号、参数、图片等信息;如想了解更多产品相关详情,烦请致电详谈或在线留言!
  • 相关品类
  • 同厂商产品

您可能还在找

新品推荐

ixion 193 SLM 准分子激光器

IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。

ixion 193 SLM 准分子激光器

IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。

ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di

ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di

SYSKEY紧凑式溅射系统 Compact Sputter

Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。

SYSKEY紧凑式热蒸发镀膜系统 Compact Thermal

Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料

SYSKEY 高真空溅射系统 HV Sputter

高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%

SYSKEY超高真空磁控溅射镀膜机UHV Sputter

超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本

Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal

Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。

推荐品牌

中科院 上海豫明 中科院金属所 山东澳柯玛 安徽中科都菱 天津光达 天津艾达恒晟 天津中科谱光 深圳科兴力 南京简智

在线留言

上传文档或图片,大小不超过10M
换一张?
取消