德国Allresist 特殊工艺用光刻胶
Special manufacture/experimental sample
型号 | 特性 | ||
导电胶 | 电子束曝光用导电层,不含光敏物质。 | ||
AR-BR 5400 | 双层Lift-Off工艺底层胶 | ||
AR-PC 500 | 耐酸碱保护胶 | ||
SX AR-PC 5000/40 | 耐酸碱保护胶 | ||
AR-P 5910 | 耐HF酸刻蚀光刻胶,正胶 | ||
X AR-P 5900/4 | 耐碱刻蚀光刻胶,正胶 | ||
SX AR-PC 5000/80 | 聚酰亚胺光刻胶,不含光敏物质 | ||
SX AR-PC 5000/82 | 聚酰亚胺光刻胶,紫外正胶 | ||
X AR-P 5800/7 | 深紫外曝光胶,正胶 | ||
SX AR-P 3500/6 | 全息曝光用胶,正胶 | ||
SX AR-N 4810/1 | 有机溶剂显影光刻胶(用于无水环境),负胶 | ||
SX AR-P 8100.04/1 | PPA直写胶 |
配套试剂
(Process chemicals)
类型 | 型号 | 特性 |
显影液 | AR 300-26, -35 | 紫外光刻胶用 显影液 |
AR 300-44,-46,-47, -475 | 紫外/电子束光刻胶用 显影液 | |
AR 600-50,-51,-55,-56 | PMMA胶用 显影液 | |
定影液 | AR 600-60,-61 | 电子束光刻胶用 定影液 |
除胶剂 | AR 300-70, -72, -73,600-70 | 紫外/电子束光刻胶用 除胶剂 |
稀释剂 | AR 600-01…09 | PMMA胶 稀释剂 |
AR 300-12 | 紫外/电子束光刻胶用 稀释剂 | |
增附剂 | AR 300-80, HMDS | 紫外/电子束光刻胶用 增附剂 |
- 产品分类
- 品牌分类
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- 离子刻蚀与沉积系统
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- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
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- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
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- (德国)德国UniTemp
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- (日本)日本尼康
- (美国)湖岸LakeShore
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- (德国)德国YXLON
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- (美国)美国OGP
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- (深圳)杰普特
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