OAI Model 212型桌面掩模对准系统
。输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm
。灯功率范围从1000到5000 w
。选择UVLED (365 nm和405 nm)光源
。基片尺寸范围从12“dia平方
。特殊12“x 12”和3毫米厚玻璃基板
。互换抛掷和面具
。空气轴承真空吸盘
。接近(15-20umgap): & lt; 3.0 - 5.0,柔软触点:2.0um,硬触点:1um和真空接点:≤0.5um
。对齐模块X, Y,和Z轴和θ
。双通道光学反馈
。只提供正面接触w / IR选项
。仅在桌面选项可用,适用于研发和独立的工作
。占用空间小
。适用于生物学、微机电系统、半导体和Microfludics CLiPP应用程序
Model 212 Table Top Mask Aligner System
。 Output Spectra Range: Hg: G (436nm), H (405nm), I(365nm) and 310nm lines, Hg-Xe: 260nm and 220nm or LED: 365nm, 395nm and 405nm
。 Lamp Power range from 1000 to 5000W
。 Option for UVLED (365nm and 405nm) Light Source
。 Substrate sizes range from 12” dia to sq
。 Special 12” x 12” and up to 3mm thick Glass Substrates
。 Interchangeable chucks and mask holders
。 Air bearing vacuum chuck
。Proximity (15-20umgap ): <3.0 – 5.0um, Soft Contact: <2.0um, Hard contact: 1um and vacuum contact : ≤ 0.5um
。 Alignment module X, Y, and Z axis and theta
。 Dual-channel optical feedback
。 Provides Front side exposure only w/ IR Option
。 Available in Table top option only and applicable for R&D and standalone work
。 Small Footprint
。 Applicable for Biology, MEMS, Semiconductor and Microfludics, CLiPP applications
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
- 匀胶涂覆系统
- 半导体辅助工艺/光刻胶
- 半导体微纳检测仪
- 实验检测仪器
- 太阳能检测仪
- 紫外线UV光清洗/等离子清洗
- 晶圆贴片/贴膜/UV解胶机/晶圆清洗机
- (美国)美国Sinton Instruments
- (美国)美国Nano-Master
- (美国)美国novascan
- (美国)美国Neocera
- (美国)美国Trion
- (美国)美国UVOCS
- (成都)中科院
- (台北)台湾正恩科技
- (比利时)比利时宝镭泽
- (德国)德国Allresist
- (瑞士)瑞士Sawatec
- (德国)德国Diener
- (美国)美国AZ technology
- (美国)美国劳瑞尔
- (美国)美国Uvitron
- (英国)英国EMS
- (美国)美国MicroChem
- (德国)德国Optosol
- (深圳)深圳一正
- (德国)德国FS Bondtec
- (美国)美国Newport
- (英国)英国MML
- (美国)美国Nisene
- (美国)美国VTI
- (美国)美国FEI
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- (德国)德国PVA TePla
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- (英国)英国AML
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