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ESS03 波长扫描时式 多入射角光谱椭偏仪
品牌:北京赛凡
型号:ESS03
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激光椭偏仪SE 400adv PV
品牌:德国Sentech
型号:SE 400adv PV
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HORIBA 智能型多功能椭偏仪 Smart SE
品牌:日本堀场
型号:Smart SE
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光谱椭偏仪
品牌:沈阳科晶
型号:SE-VM
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光伏椭偏仪
品牌:沈阳科晶
型号:SE-PV
- 产品品牌
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HORIBA 研究级经典型椭偏仪 UVISEL Plus
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA UVISEL
- 产地:日本
椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材料的反射率及透过率。
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HORIBA.AutoSE.全自动快速椭偏仪
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: AutoSE
- 产地:法国
全自动化&高集成度&可视化光斑 操作简单,测试快速,为一般操作工人设计 新型的全自动薄膜测量分析工具可在几秒钟内完成全自动测量和分析,并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
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EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM12-PV
- 产地:
EM12是采用先进的测量技术,针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EM12-PV融合多项量拓科技ZL技术,采用一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件,使得仪器操作简单安全。
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上海致东全光谱椭偏仪
- 品牌:上海致东
- 型号: SE-SEMI-XYZ Auto tage
- 产地:浦东新区
上海致东全光谱椭偏仪
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自动椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-2型
- 产地:津南区
仪器简介:产品特点: 仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率,具有精度高、灵敏度高以及自动控制等特点。光源采用氦氖激光器,功率稳定波长精度高。 仪器采用USB接口与电脑连接,配套软件功能齐全,具有多样数据采集及处理方式,适用于不同用户的需要。技术参数:规格与主要技术指标: 测量范围:1nm-4000nm 折射率范围:1-10 测量最小值:≤1nm 入射角:20°- 90°精度≤0.05° 度盘刻度:每格1度 允许样品尺寸:φ10-φ140mm,厚度≤16mm 偏振器方位角范围:0°- 180° 外形尺寸:
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椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-1 型
- 产地:津南区
仪器简介:在近代科学技术的许多领域中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,更加精确和迅速的测定给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要。在实际工作中可以利用各种传统的方法测定光学参数,如:布儒斯特角法测介质膜的折射率,干涉法测膜厚,其它测膜厚的方法还有称重法、X射线法、电容法、椭偏法等。由于椭圆偏振法具有灵敏度高、精度高、非破坏性测量等优点,因而,椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸多领域得到广泛应用。技术参数:规格与主要技术指标: 测量范围:薄膜厚度范围:1nm-300nm; 折射率范围:1-1
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椭偏在线监测装备
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PMS
- 产地:沈阳
椭偏在线监测装备针对LCD、OLED等新型平板显示量光学薄膜质量控制需要,专门设计的在线薄膜测量系统。可适用于空气、N2、真空等环境条件,自动实现玻璃基板上各种膜系结构厚度分布、光学常数分布的全片快速扫描测量。椭偏在线监测装备广泛应用于工业中新型光电器件行业所涉及的PI配向膜、光刻胶薄膜、ITO薄膜、有机发光薄膜、有机/无机封装薄膜大基片各种膜系结构厚度分布、光学常数分布的在线式全片快速扫描测量。1、支持产线大基片自定义多点扫描测量并输出报告 2、支持ZD193-2500nm全波段分析测量 3、支持多
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光伏椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-PV
- 产地:沈阳
SE-PV光伏椭偏仪是一款光伏行业领域专用型光谱椭偏仪,针对光伏行业绒面单晶硅或多晶硅太阳能电池表面减反膜测量定制开发,快速实现薄膜物性表征分析。光伏椭偏仪广泛应用于光伏绒面单晶硅或多晶硅表面减反膜椭偏测量应用,实现单层到多层薄膜的薄膜、光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。1、光伏专用光谱椭偏测量技术,材料定制库,一键快速调用 2、配置可倾斜、大角度样件台,调节绒面单晶硅ZJ反射可测反射信息量 3、配置进口高功率、高寿命光源,增加经减反绒面后的可测反射信息量 4、光伏专用散射矩阵算法描述光与锥形表面
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-i
- 产地:沈阳
光谱椭偏仪SE-Vi是一款集成式原位光谱椭偏仪,针对有机/无机镀膜工艺研究的需要开发的原位薄膜在线监测中的定制化开发,快速实现光学薄膜原位表征分析。光谱椭偏仪广泛应用于金属薄膜、有机薄膜、无机薄膜的物理/化学气相沉积,ALD沉积等光学薄膜工艺过程中实际原位在线监测并实时反馈测量物性数据。 产品型号 SE-i 光谱椭偏仪 技术参数 1、自动化程度:固定变角 2、应用定位:原位定制型 3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S等光谱 4、分析光谱:380
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-Glass
- 产地:沈阳
光谱椭偏仪SE-Glass 是一款针对玻璃盖板行业定制的专用型光谱椭偏仪,针对玻璃盖板光学镀膜行业通过集成微光斑+可视化调平系统仪消除透明基底背反测量定制开发,快速实现玻璃盖板上多层薄膜物性表征分析。光谱椭偏仪SE-Glass 广泛应用于玻璃基底山减反膜、调光膜、导电膜等薄膜的膜厚,光学常数测量,WM适用于玻璃盖板、光学薄膜等镀膜检测应用。1、针对手机玻璃盖板光学镀膜工艺定制开发专用光谱椭偏仪 2、旋转补偿器测量技术和光学建模技术 3、微光斑集成设计消除玻璃/膜片基底背反影响 4、可视化样品台调平模块
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全自动椭偏检测机台
- 品牌:沈阳科晶
- 型号:
- 产地:沈阳
全自动椭偏检测机台作为一种小型椭偏集成机台,通过整体高度模块化,电、气路集成技术,实现不同椭偏测量模块在线/离线式整体椭偏测量解决方案。全自动椭偏检测机台广泛应用于科学研究中各种各向同性,异性薄膜材料的膜厚、光学常数以及一维、二维纳米光栅的结构表征;工业领域新型光电器件行业所涉及的薄膜(配向膜、光刻胶、ITO、发光薄膜、封装薄膜)全片离线化快速扫描测量。1、支持实验室研究整体椭偏集成控制测量技术 2、支持产线大基片离线自定义多点扫描测量并输出报告 3、支持多椭偏方案,多组合集成 4、支持测头模块以及样
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-Mapping
- 产地:沈阳
SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。1、全基片椭偏绘制化测量解决方案 2、支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量 3、配置Mapping模块,全基片自定义多
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-L
- 产地:沈阳
SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪,集众多科技ZL技术,采用行业前沿创新技术,配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构:介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜,激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案 2、全自动变角、调焦等控制平台,一键快速测量 3、软件交互式界
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-VE
- 产地:沈阳
SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。 高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。 广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-VM
- 产地:沈阳
SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。 高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。 广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析
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全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: ME-L
- 产地:沈阳
ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构,半导体周期性纳米结构,新材料,新物理现象研究,平板显示,光伏太阳能,功能性涂料,生物和化学工程,块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。 双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块,
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激光椭偏仪SE 400adv PV
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 400adv PV
- 产地:德国
激光椭偏仪SE 400adv PV,是全球化使用的标准仪器,用于测量PV单层防反射涂层的厚度和折射率指数。特别用于表征单晶和多晶硅太阳能电池上的SiNx 防反射单层膜的性能。该仪器用于SiNx涂层和薄钝化层SiO2和Al2O3的质量控制。
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天津拓普 TPY-2自动椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-2
- 产地:南开区
TPY-2 自动椭圆偏振测厚仪采用消光法自动控制,自动测量薄膜厚度和折射率,具有精度和灵敏度更高等特点。
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天津拓普 TPY-1椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-1
- 产地:南开区
TPY-1 椭圆偏振测厚仪采用消光法手动调节,自动测量薄膜厚度和折射率,精度高、灵敏度高、方便测量。
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HORIBA智能型多功能椭偏仪 Smart SE
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: Smart SE
- 产地:法国
HORIBA Smart SE智能型多功能椭偏仪是一款针对单层和多层薄膜进行简单,快速,精确表征和分析的工具。 多功能性设计,配置灵活,具备多角度测量能力,可方便实现在线与离线配置切换。
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光谱椭偏仪SE 800 PV
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 800 PV
- 产地:德国
光谱椭偏仪SE 800 PV是分析结晶和多晶硅太阳能电池防反射膜的理想工具。可以测量单层薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多层叠层膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。
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激光椭偏仪SE 500adv
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 500adv
- 产地:德国
激光椭偏仪SE 500adv, 结合椭偏反射CER的SE 500adv 椭偏仪SE 500adv将激光椭偏仪和反射仪结合在一个系统中。这种组合允许零度反射法用于快速薄膜分析,并且允许透明膜以激光椭偏仪的亚埃精度将可测量的厚度范围扩展到25埃米,从而明确地确定厚度。
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德国Sentech激光椭偏仪SE 400adv
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 400adv
- 产地:德国
德国Sentech激光椭偏仪SE 400adv, 测量透明薄膜的厚度和折射率指数,具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精度。多角度测量允许使用激光椭偏仪SE 400adv表征吸收膜特征。
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SENDURO 全自动光谱椭偏仪
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SENDURO
- 产地:德国
SENDURO 全自动光谱椭偏仪包括基于测量的仅在几秒钟内即可完成的快速数据分析。椭圆仪的设计是为了便于操作:放置样品,自动样品对准,自动测量和分析结果。在全自动模式下使用光谱椭偏仪非常适合于质量控制和研发中的常规应用。
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德国Sentech红外光谱椭偏仪SENDIRA
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SENDIRA
- 产地:德国
SENDIRA红外光谱椭偏仪,振动光谱的特点是傅立叶红外光谱仪FTIR。测量红外分子振动模的吸收谱带,分析长分子链的走向和薄膜的组成。红外光谱椭偏仪适用于测量导电膜的电荷载流子浓度。
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光谱椭偏仪SENpro
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SENpro
- 产地:德国
德国 Sentech 低成本GX益的光谱椭偏仪SENpro,SENpro椭偏仪是椭偏仪应用的智能解决方案。它具有角度计,入射角度步进值5°。操作简单,快速测量和直观的数据分析相结合,以低成本效益高的设计来测量单层和多层膜的厚度和光学常数。
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SENresearch 4.0 拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SENresearch 4.0
- 产地:德国
SENresearch 4.0:拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪,在宽的光谱范围从190nm(深紫外)到3,500 nm(近红外)。每一台SENresearch 4.0都是客户特定的椭偏光谱解决方案。SENresearch 4.0可以配置用于全穆勒矩阵、各向异性、广义椭偏、散射测量等。使用步进扫描分析器原理实现测量结果。
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HORIBA.AutoSE.全自动快速椭偏仪
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: AutoSE
- 产地:法国
全自动化&高集成度&可视化光斑 操作简单,测试快速,为一般操作工人设计 新型的全自动薄膜测量分析工具可在几秒钟内完成全自动测量和分析,并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
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Film Sense FS-1多波长椭偏仪
- 品牌:美国Film Sense
- 型号: FS-1™
- 产地:美国
Film Sense FS-1多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现快速和可 靠地薄膜测量。大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量,就 可以获得非常精密和准确的数据。
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HORIBA 研究级经典型椭偏仪 UVISEL Plus
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA UVISEL
- 产地:日本
椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材料的反射率及透过率。
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Accurion EP4 成像椭偏仪
- 品牌:韩国Park Systems
- 型号: Accurion EP4
- 产地:韩国
Accurion EP4成像椭偏仪Accurion EP4成像椭偏仪EP4是新一代的成像椭偏仪,它有机地结合了传统光谱椭偏仪和光学显微镜技术。这使得我们能够在小至1µm的微结构上以椭偏仪的灵敏度表征薄膜厚度和折射率。显微镜部分能够同时测量光学系统全视场范围内的所有结构。传统的椭偏仪注重于测量整个光斑,而不能实现高精度的横向分辨率,并且需要逐点测量。EP4的显微镜功能使得我们能够获得微观结构的椭偏增强对比图像。在相机的实时图像中可以看到折射率或厚度的微小变化。允许识别椭偏测量的感兴趣区域(选区测量),以
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HORIBA 真空紫外椭偏仪 UVISEL 2 VUV
- 品牌:日本堀场
- 型号: UVISEL 2 VUV
- 产地:日本
专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
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Bruker椭偏仪FilmTek 2000 PAR-SE
- 品牌:德国布鲁克
- 型号: FilmTek 2000 PAR-SE
- 产地:德国
Bruker椭偏仪FilmTek 2000 PAR-SE ——用于几乎所有先进薄膜或产品晶片测量的先进多模计量
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Bruker FilmTek CD椭偏仪
- 品牌:德国布鲁克
- 型号: FilmTek CD
- 产地:德国
FilmTekTM CD光学临界尺寸系统是我们解决方案,可用于1x nm设计节点及更高级别的全自动化、高通量CD测量和高级薄膜分析。该系统同时提供已知和完全未知结构的实时多层堆叠特性和CD测量。 FilmTek CD利用多模测量技术来满足与开发和生产中复杂的半导体设计特征相关的挑战性需求。这项技术能够测量极小的线宽,在低于10纳米的范围内进行高精度测量。
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Bruker 椭偏仪 FilmTek 2000M TSV
- 品牌:德国布鲁克
- 型号: FilmTek 2000M TSV
- 产地:德国
FilmTek™ 2000M TSV计量系统为半导体封装应用提供了速度和精度组合。该系统为各种封装工艺和相关结构的高通量测量提供了测量性能和精度,包括表征抗蚀剂厚度、硅通孔(TSV)、铜柱、凸块和再分布层(RDL)。
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Bruker椭偏仪FilmTek 2000 PAR-SE
- 品牌:德国布鲁克
- 型号: FilmTek 2000 PAR-SE
- 产地:德国
FilmTek™ 2000标准杆数-SE光谱椭圆偏振仪/多角度反射仪系统结合了FilmTek技术,为从研发到生产的几乎所有薄膜测量应用提供了业界领先的精度、精度和多功能性。其标准的小点测量尺寸和模式识别能力使该系统成为表征图案化薄膜和产品晶片的理想选择。 作为我们组合计量产品线(“标准杆数-SE”)的一部分,FilmTek 2000标准杆数-SE能够满足主流应用所需的平均厚度、分辨率和光谱范围之外的测量要求,并由标准仪器提供。
- 椭偏仪/椭圆偏振仪
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